[发明专利]一种优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法

权利要求书

1.一种优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法，该光刻照明光源包括微反射镜阵列和微透镜阵列，其特征在于，具体过程为：

步骤一、将设计光源和目标光源之间的均方根误差作为误差函数；

步骤二、同时改变所有光斑中心点在光瞳平面的位置；

步骤三、计算位置改变前后误差函数的变化量；基于模拟退火算法对所述变化量进行判断，确定所有光斑中心点在光瞳平面的位置；

步骤四、判断重复执行步骤二和步骤三的次数是否达到设定次数，若是，则进入步骤五，否则返回步骤二；

步骤五、选定一个光斑；

步骤六、改变选定光斑中心点在光瞳平面的位置，计算位置改变前后误差函数的变化量；基于模拟退火算法对所述变化量进行判断，确定所有光斑中心点在光瞳平面的位置；

步骤七、判断所选定光斑位置改变的次数是否达到预定次数，若是，则步骤五所选定的光斑优化结束，此时进入步骤八，否则，改变选定光斑中心点在光瞳平面的位置并返回步骤六；

步骤八、重新选定一个光斑，按照步骤六至步骤七的方式执行，直至所有光斑中心点在光瞳平面的位置都优化完为止；

步骤九、根据当前获得的所有光斑中心点在光瞳平面的位置，调节微反射镜的倾斜角，获取与目标光源相近的光刻照明光源。

2.根据权利要求1所述优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法，其特征在于，所述步骤二至步骤四的具体过程为：

步骤101、同时改变所有光斑中心点在光瞳平面的位置S^k(x_j，y_j)，每个光斑中心点坐标位置变化方式为S^k+1(x_j，y_j)=S^k(x_j，y_j)+(Δx，Δy)，其中(Δx，Δy)是光斑中心点坐标附近的一个随机值；

判断改变后的位置是否同时满足以下两条要求：首先，该位置在光瞳平面范围内；其次，该位置与目标光源存在重合；若不满足，则继续改变位置直至改变后的新位置符合所述两条要求为止；得到当前所有光斑中心点坐标位置矩阵Θ^k+1；

步骤102、根据所述光斑中心点坐标位置矩阵Θ^k+1获取设计光源，计算当前的误差函数和上次迭代的误差函数的变化量Δe_k，基于模拟退火算法对变化量Δe_k进行判断，若Δe_k<0，则直接进入步骤103；若Δe_k>0，则计算新状态的接受概率若p大于(0，1)之间的一个随机数，则直接进入步骤103，否则将光斑中心点在光瞳平面的位置变换为改变前的位置，进入步骤103；

步骤103、判断重复步骤101-102的次数是否达到内循环的次数上限N_in，若是进入步骤104，否则返回步骤101；

步骤104、令外循环次数N_out加1，退火温度T下降为T×α，其中α是一个线性因子，其取值范围是(0，1)；

步骤105、重复步骤101-104，当外循环次数N_out达到预定的次数上限后，进入步骤五。