[发明专利]一种氧化物替代式图形衬底的制备方法

权利要求书

1.一种氧化物替代式图形衬底的制备方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：

1）在蓝宝石衬底表面生长一层SiO₂薄膜；

2）在长有SiO₂薄膜的蓝宝石衬底表面旋涂一层光刻胶；

3）通过步进式光刻机对步骤2）中的蓝宝石衬底进行曝光、显影后得到表面有圆柱型光刻胶掩膜的蓝宝石衬底；

4）对步骤3）中的蓝宝石衬底进行湿法腐蚀，SiO₂薄膜在圆柱型光刻胶掩膜的保护下被BOE溶液腐蚀出特定的图形阵列，直至露出蓝宝石表面；

5）去除光刻胶，采用稀释的BOE溶液对图形化的SiO₂薄膜进行过腐蚀，利用湿法腐蚀制备出氧化物替代式图形衬底。

2.根据权利要求1所述的氧化物替代式图形衬底的制备方法，其特征在于：所述步骤1）中SiO₂薄膜厚度是1.5μm～3.0μm。

3.根据权利要求1所述的氧化物替代式图形衬底的制备方法，其特征在于：所述步骤2）中光刻胶的厚度是2.0μm～3.0μm。

4.根据权利要求3所述的氧化物替代式图形衬底的制备方法，其特征在于：所述步骤3）中的曝光能量是150ms～200ms，焦距：0.5～1.0，显影后得到圆柱型光刻胶掩膜D=2μm，space=1μm，135℃下烘烤10min。

5.根据权利要求4所述的氧化物替代式图形衬底的制备方法，其特征在于：所述步骤4）用BOE溶液对蓝宝石衬底进行湿法腐蚀，室温下BOE溶液浓度越大腐蚀速率越大，BOE稀释溶液是体积比BOE:H₂O=1:2～1:10；将腐蚀速率控制在100～300nm/min。

6.根据权利要求5所述的氧化物替代式图形衬底的制备方法，其特征在于：所述BOE溶液是体积比HF:NH₄F=1:6的缓冲氧化物刻蚀液。

7.根据权利要求6所述的氧化物替代式图形衬底的制备方法，其特征在于：所述步骤5）通过硫酸、双氧水混合溶液：体积比H₂SO₄(98%):H₂O₂(30%)=4:1去除光刻胶。