[发明专利]一种提高分立式微变形镜填充因子的方法

权利要求书

1.一种提高分立式微变形镜填充因子的方法，其特征在于：包括一个微缩束镜阵列（1）和一个分立式微变形镜（2），微缩束镜阵列（1）和分立式微变形镜（2）具有相同的单元间距，入射光经过微缩束镜阵列（1）之后被分割并缩束，形成一个光斑阵列，阵列中单个光斑的口径与微缩束镜阵列（1）单个单元口径的比值即微缩束镜阵列（1）的缩束比；该光斑阵列再入射到分立式微变形镜（2）表面，阵列中每个光斑均投射到分立式微变形镜（2）的相应单元，分立式微变形镜的各单元根据入射光像差进行相应的校正变形，使光斑阵列反射回去重新通过微缩束镜阵列（1）从而扩束合成，实现了像差校正；入射光由于被微缩束镜阵列（1）缩束而可匹配于分立式微变形镜（2）的单元口径，整个系统的填充因子从分立式微变形镜（2）的填充因子提高到了微缩束镜阵列（1）的填充因子。

2.根据权利要求1所述的一种提高分立式微变形镜填充因子的方法，其特征在于：所述的微缩束镜阵列（1），是由两个焦点重合的第一微透镜阵列（3）和第二微透镜阵列（4）组成，且第一微透镜阵列（3）和第二微透镜阵列（4）具有相同的单元间距，微缩束镜阵列（1）的缩束比即第一微透镜阵列（3）和第二微透镜阵列（4）的焦距之比，微缩束镜阵列（1）的填充因子即微透镜阵列（3）的填充因子。

3.根据权利要求2所述的一种提高分立式微变形镜填充因子的方法，其特征在于：所述的第二微透镜阵列（4）是微凸透镜阵列或是微凹透镜阵列。

4.根据权利要求2所述的一种提高分立式微变形镜填充因子的方法，其特征在于：所述的两个焦点重合的第一微透镜阵列（3）和第二微透镜阵列（4）是折射型或是衍射型。

5.根据权利要求2所述的一种提高分立式微变形镜填充因子的方法，其特征在于：所述的两个焦点重合的第一微透镜阵列（3）和第二微透镜阵列（4）是单独的两个器件，或是将两个微透镜阵列加工在同一块基底的两个表面，形成一个单独的和完整的微缩束镜阵列（5）。