[发明专利]一种脱除热敏性固体药物中残留溶剂的方法

说明书

技术领域

本发明涉及脱除固体药物中残留溶剂的方法，具体地，涉及一种脱除稳定温度低于0℃且难溶于高压CO₂的热敏性固体药物中残留溶剂的方法。 

背景技术

药物中的残留溶剂是指在药物生产过程中的有机物残留。残留溶剂会危害人体健康，国家药监局对残留溶剂制定了严格的标准规范，所以，对药物中残留溶剂进行脱除是十分必要的。 

目前脱除残留溶剂的主要方法有萃取法、蒸发干燥法、冷冻干燥法等。萃取法可能会导致二次污染，也容易破坏药物中的活性物质。蒸发干燥法需要预热混合物，不适用于热敏性物质。冷冻干燥法适应范围小，且当溶残含量较低时，该方法效果不明显。 

本发明人在专利（申请号为201230391269.8）中提出了一种基于亚临界CO₂流体的低温脱溶剂工艺，很好的解决了上述问题。但CO₂和残留溶剂在分离釜内很难实现完全分离，影响脱除效果。 

发明内容

为了解决上述问题，本发明提出了一种通过减压和吸附共同作用脱除稳定温度低于0℃且难溶于高压CO₂的热敏性固体药物中残留溶剂的方法，大大提高了热敏性固体药物中残留溶剂脱除效果。 

为了达到上述目的，本发明的技术方案是：分别装填适量未处理热敏性药物粉末、吸附剂到脱溶剂釜13、分离釜19中，系统抽真空；CO₂气瓶1排出压力约5MPa的CO₂依次通过净化器3净化、制冷装置Ⅰ4冷却、CO₂高压泵6 加压、制冷装置Ⅱ9冷却到达脱溶剂釜13；控制脱溶剂釜13压力、温度和CO₂流量稳定在设定值，CO₂在脱溶剂釜13萃取脱除药物内残留溶剂；脱溶剂釜13排出的含残留溶剂的CO₂到达分离釜19，通过减压和吸附共同作用实现CO₂中残留溶剂的分离；分离釜19排出的CO₂经净化器3净化后循环使用。 

所述热敏性固体药物难溶于低温高压CO₂，如地西他滨、依维莫斯、坦西莫斯等。 

所述脱溶剂釜13压力为7～50MPa、温度为-20～0℃，CO₂流量为20～100L/h。 

所述优选的脱溶剂釜13压力为10～30MPa、温度为-10～0℃，CO2流量为20～40L/h。 

所述吸附剂为活性炭、硅胶、氧化铝或分子筛等。 

所述分离釜19压力为4～6MPa。 

由于采用了所述的技术方案，本发明具有如下优越性： 

1、本发明提供了一种通过减压和吸附共同作用脱除稳定温度低于0℃且难溶于高压CO₂的热敏性固体药物中残留溶剂的方法，同时CO₂循环使用，节约了成本。 

2、采用本发明的方法对热敏性固体药物中残留溶剂的脱除有很好的效果，残留溶剂剩余量符合药品生产质量管理规范。 

3、采用本发明的方法成本低、绿色环保，易于推广使用。 

附图说明

图1为CO₂脱除热敏性固体药物中残留溶剂的方法示意图；(1-CO₂气瓶，2-阀门，3-净化器，4-制冷装置Ⅰ，5-阀门，6-CO₂高压泵，7-单向阀，8-阀门，9-制冷装置Ⅱ，10-单向阀，11-阀门，12-放空阀，13-脱溶剂釜，14-安全阀， 15-阀门，16-真空泵，17-阀门，18-放空阀，19-分离釜，20-安全阀，21-背压阀，22-流量计，23-三通阀) 

具体实施方式

以下对本发明的实施例进行说明，应当理解，此处所描述的实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。 

实施例1： 

一种脱除地西他滨中残留乙腈溶剂的方法，包括如下步骤，