[发明专利]一种高真空磁控轴瓦溅镀机

权利要求书

1.一种高真空磁控轴瓦溅镀机，包括溅镀壳体(1)，溅镀壳体(1)内设有溅镀腔(8)，所述溅镀腔(8)设有溅射靶(2)和轴瓦支撑架(4)，所述溅镀壳体(1)底部设有底座(7)，其特征在于：在所述底座(7)上设有溅射靶架旋转轴(6)，所述溅射靶架旋转轴(6)固定设有用来活动放置溅射靶(2)的溅射靶支撑架(3)，所述所述溅射靶(2)为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，所述溅射靶支撑架(3)中间固定连接有溅射靶架旋转轴(6)，两侧边缘为凹凸锯齿状，在所述底座7上还设有挡板(10)，所述挡板(10)边缘设有与溅射靶支撑架(3)两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架(4)包括轴瓦支架旋转轴(5)和活动装设在轴瓦支架旋转轴(5)上用来悬挂轴瓦的挂柱(9)，在所述底座(7)下方设有电机，所述溅射靶架旋转轴(6)和轴瓦支架旋转轴(5)各独自连接一个电机，所述每两根轴瓦支架旋转轴(5)由一个挡板(10)和挡板(10)两侧边缘各垂直紧靠一个溅射靶支撑架(3)以及溅镀壳体(1)围绕着，所述每两根轴瓦支架旋转轴(5)转向相反，所述溅射靶架旋转轴(6)转向为顺时针，所述溅镀壳体(1)顶部设置有液压装置(11)，所述液压装置(11)通过圆杆贯穿溅镀壳体(1)顶面连接一个设置在溅镀壳体(1)内部的圆形密封盖(12)。

2.根据权利要求1所述一种高真空磁控轴瓦溅镀机，其特征在于：所述轴瓦支架旋转轴(5)表面设有多个螺纹孔，所述挂柱(9)尾端设有与螺纹孔配合的牙，所述挂柱(9)中间半径小于首段半径。