[发明专利]一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种对Si基缓冲层镀膜玻璃光学参数的检测方法，属于镀膜玻璃检测领域。

背景技术

缓冲层薄膜，是一种介于目标功能薄膜与基板之间的过渡薄膜，在多层膜体系中往往起到重要的桥梁作用，如消除目标功能层薄膜与基板的晶格失配度、阻挡基板中有害元素向目标功能薄膜的扩散、优化整体膜系的光学特性等。非晶SiC_xO_y缓冲层薄膜便是一种广泛应用于透明导电氧化物膜系中的缓冲层薄膜，它与玻璃基底及大部分氧化物薄膜均有优异的结构相容性，非晶的物质结构也使其具有良好的有阻挡特性，更为重要的是，能够采用常压化学气相沉积的方法制备SiC_xO_y缓冲层薄膜使其能与浮法玻璃在线镀膜具有很好的工艺兼容性，有利于大面积镀膜。

然而，当采用SiC_xO_y层来作为浮法玻璃与透明导电氧化物薄膜之间的缓冲层时，由于该Si系缓冲层薄膜无论从成分还是光学参数上都与基板玻璃十分相似，采用常规的光学测量手段难以准确获得该层薄膜的精细结构及其光学参数，这些都使得整体膜系的光学特性难以设计及优化。虽然基于透、反射光谱的拟合获得薄膜光学参数的方法（ZL200610053955.9，一种测量镀膜玻璃薄膜光学参数的方法）初步解决了Si系镀膜玻璃光学参数快速检测的问题，但是该发明将Si系镀膜玻璃假设为一层均质平整的薄膜处理，与实际情况不符，因此在检测中尚存在一定的偏差。

椭圆偏振光谱测量是一种快速、非接触式、非破坏性、高精度的光学分析技术，它通过研究光波同样品作用后偏振态的变化来获得薄膜的光学特性，对小至单原子层厚度的膜层结构及微小的折射率变化都非常敏感，可被用于精度要求较高、薄膜/基板区分度较小的缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测。

发明内容

本发明的目的在于提供一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法，以实现对Si基缓冲层镀膜玻璃的结构信息及光学参数进行实时快速、简便、准确的检测。

本发明的Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法，该缓冲层镀膜玻璃为SiC_xO_y，0＜x＜1，1＜y＜4，其特征是步骤如下：

利用光度式椭圆偏振光谱仪测量SiC_xO_y缓冲层玻璃在紫外～可见波段光谱范围内的椭偏参数，记为cosΔ_M及tanΨ_M，同时在测量波长λ处写出椭偏参数关于折射率消光系数和膜厚的函数，记为及其中和均为一阶向量，向量维数等于建立模型的膜层数，针对SiC_xO_y缓冲层镀膜玻璃，膜层数及向量维数为3，建立cosΔ_M，tanΨ_M与之间的均方差函数MSE，如式（1）所示：