[发明专利]末端含吡啶基的二蒽类化合物及其应用有效

专利信息
申请号: 201410111568.0 申请日: 2014-03-24
公开(公告)号: CN104744347B 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 黄达;孙艳雪;谭玉东;靳灿辉;孙仲猛;曹林法 申请(专利权)人: 江苏和成新材料有限公司
主分类号: C07D213/06 分类号: C07D213/06;C07D213/127;C09K11/06;H01L51/54
代理公司: 北京嘉和天工知识产权代理事务所(普通合伙) 11269 代理人: 甘玲
地址: 210000 江苏省南京市南京*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 末端 吡啶 二蒽类 化合物 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种制备如通式I所示的二蒽类化合物的方法,

所述方法包括:

1)将式2化合物

和式9化合物

通过偶联反应得到式10化合物

经溴化反应得到式11化合物

2)所述式11化合物和式12化合物

通过偶联反应得到式13化合物

经溴化反应得到式14化合物

3)所述式14化合物和式15化合物

通过偶联反应得到通式I所示的二蒽类化合物

其中,

L1和L2相同或不同,彼此相互独立地表示C2-C60的取代或未取代杂环型芳香基团或C6-C60的取代或未取代碳氢型芳香基团;

L3独立地表示C2-C60的取代或未取代杂环型芳香基团或C6-C60的取代或未取代碳氢型芳香基团;

前提是L1、L2和L3不同时为

R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R21、R23、R24、R25、R26、R27和R28相同或不同,彼此相互独立地表示氢、卤素、C1-C10的取代或未取代的烷基、或C1-C10的取代或未取代的烷氧基;

X4为卤素。

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