[发明专利]提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法无效
| 申请号： | 201410113763.7 | 申请日： | 2014-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN103997842A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 章程;邵涛;杨文晋;周中升 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 关玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提高 大气压 等离子体 射流 阵列 空间 均匀 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于在大气压等离子体射流阵列的工作气体纯氦气体中添加氧气，氦气流速为3L/min，氧气流速为0.003～0.007L/min。
2.根据权利要求1所述的提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于所述方法的操作步骤如下：
（1）打开所述的大气压等离子体射流阵列的氦气集气瓶气压阀，调节气体流量控制器使氦气流速为3L/min；
（2）启动所述大气压等离子体射流阵列的高压微秒脉冲电源，调节微秒脉冲电源电压至14kV，频率至3kHz，通过大气压等离子体射流阵列的脉冲触发器触发；
（3）打开氧气集气瓶气压阀，调节气体流量控制器使氧气体流速为0.003～0.007L/min。
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