[发明专利]填充膜以及利用该填充膜制造有机发光显示设备的方法有效
申请号: | 201410114298.9 | 申请日: | 2014-03-25 |
公开(公告)号: | CN104183779B | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 金正洙 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩芳 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 填充 以及 利用 制造 有机 发光 显示 设备 方法 | ||
1.一种填充膜,所述填充膜包括:
填充材料;
第一脱离膜,附着到填充材料的第一表面;
第二脱离膜,附着到填充材料的第二表面;以及
支撑层,附着到第二脱离膜,
其中,第二脱离膜和支撑层之间的结合力大于填充材料和第二脱离膜之间的结合力,
其中,第一脱离膜的厚度大于第二脱离膜的厚度,
其中,第一脱离膜和填充材料之间的结合力大于第二脱离膜和填充材料之间的结合力。
2.根据权利要求1所述的填充膜,其中,支撑层包括聚对苯二甲酸乙二酯并且具有50微米至100微米范围的厚度。
3.根据权利要求1所述的填充膜,其中,支撑层的上表面被静电屏蔽。
4.一种制造显示设备的方法,所述方法包括:
将填充膜与堆叠多个填充膜的堆叠件分离;
在膜台上将分离的填充膜置于中心;
在包封基底上层叠填充膜的填充材料;以及
将包封基底和包括显示单元的基底组合,
其中,在层叠之前,填充膜包括:附着到填充材料的第一表面的第一脱离膜、附着到填充材料的第二表面的第二脱离膜和附着到第二脱离膜的支撑层,
支撑层包括聚对苯二甲酸乙二酯并且具有50微米至100微米范围的厚度,
其中,第二脱离膜和支撑层之间的结合力大于填充材料和第二脱离膜之间的结合力,
其中,第一脱离膜的厚度大于第二脱离膜的厚度,
其中,第一脱离膜和填充材料之间的结合力大于第二脱离膜和填充材料之间的结合力。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,支撑层的上表面被静电屏蔽。
6.根据权利要求4所述的方法,其中,分离填充膜的步骤包括:利用拾取单元的真空垫提起填充膜。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,分离填充膜的步骤还包括当提起填充膜时或提起填充膜之后的震动操作。
8.根据权利要求4所述的方法,其中,将分离的填充膜置于中心的步骤包括:通过形成在膜台上的定心鞘来按压填充膜的侧表面,其中,支撑层被构造为防止填充膜在置于中心的步骤期间弯曲或起皱。
9.根据权利要求4所述的方法,所述方法还包括:在层叠填充材料之前,将支撑层和第二脱离膜从填充材料分离。
10.根据权利要求4所述的方法,所述方法还包括:在组合包封基底和基底之前,将第一脱离膜从填充材料分离。
11.根据权利要求4所述的方法,所述方法还包括:在组合包封基底和基底之前,在包封基底上设置密封材料和吸湿剂。
12.一种填充膜,所述填充膜包括:
第一脱离膜,具有第一厚度;
填充材料,设置在第一脱离膜上;
第二脱离膜,设置在填充材料上并具有第二厚度,第二厚度小于第一厚度;以及
支撑层,设置在第二脱离膜上,支撑层包括聚对苯二甲酸乙二酯并且具有第三厚度,第三厚度大于第二厚度,
其中,填充材料具有第四厚度,第四厚度小于第三厚度,
其中,第一脱离膜和填充材料之间的结合力大于第二脱离膜和填充材料之间的结合力,
其中,第二脱离膜和支撑层之间的结合力大于填充材料和第二脱离膜之间的结合力。
13.根据权利要求12所述的填充膜,其中,第一脱离膜包括聚甲基戊烯膜、聚对苯二甲酸乙二酯膜、膜和聚丙烯膜中的至少一种,第二脱离膜包括聚甲基戊烯膜、聚对苯二甲酸乙二酯膜、膜和聚丙烯膜中的至少一种。
14.根据权利要求13所述的填充膜,其中,第三厚度大于或等于50微米并且小于或等于100微米。
15.根据权利要求14所述的填充膜,其中:
支撑层的上表面被静电屏蔽,
第一厚度和第三厚度都等于100微米。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择