[发明专利]光学薄膜的膜厚监控方法及非规整膜系光学膜厚仪无效

专利信息
申请号: 201410114949.4 申请日: 2014-03-26
公开(公告)号: CN103849850A 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 弥谦;杭凌侠;潘永强 申请(专利权)人: 西安工业大学
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/52
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710032 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 光学薄膜 监控 方法 规整 光学 膜厚仪
【权利要求书】:

1.一种光学薄膜的膜厚监控方法,其特征在于:依次包括下述步骤:

一、采用相同膜料进行预镀,四片薄膜光学厚度分别相差为λ/8,然后在实际镀膜过程中四片一起被沉积上薄膜,可以得到四路相差为90度的正弦或余弦信号,数学表达式依次记为:T01、T02、T03、T04

     (2)

 (3)

 (4)

(5)

二、调整:对四路信号依次求倒数,再乘以常数,得到信号F01、F02、F03、F04

                      (6)

                (7)

                 (8)

                (9)

三、消除直流分量,得到依次相差90度的正弦或余弦信号:

                   (10)

   (11)

 (12)

(13)

其中,

四、由四路相位依次相差90度的正弦信号,通过数学处理可以得到近似的三角波。

2.根据权利要求1所述方法制得的非规整膜系光学薄厚仪,包括光源、比较片、光电探测器、放大器和计算机,其特征在于:所述光源为单一波长的激光光源,其出射光光路上设置有调制器和分束器,分束器的四路出射光进入镀膜机内的比较片上,所述比较片上设置有四片相同膜料进行预镀且薄膜光学厚度分别相差为λ/8的薄膜;所述光电探测器采用四象限探测器。

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