[发明专利]一种基于shifrin变换的粒径分布测量方法无效

专利信息
申请号: 201410119699.3 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN103868832A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 戴兵;袁银男;钱鹏;杨宗岺;韩月 申请(专利权)人: 南通大学
主分类号: G01N15/02 分类号: G01N15/02
代理公司: 南京同泽专利事务所(特殊普通合伙) 32245 代理人: 蔡晶晶
地址: 226019*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 shifrin 变换 粒径 分布 测量方法
【权利要求书】:

1.一种基于shifrin变换的粒径分布测量方法,步骤如下:

步骤1、将装有待测样品的样品盒安装到位;

步骤2、打开激光器,激光器发出的光经衰减、滤波、扩束及准直后成为平行光,然后用可变光阑调节为直径适度的光束入射到样品盒,在物镜的焦平面上将形成颗粒群的散射谱;

步骤3、调节衰减器,使设置于物镜焦平面的图像传感器上接收到光强适当的散射谱光强度分布;

步骤4、图像传感器输出的电信号经过采样输入计算机进行计算;

步骤5、根据以下公式计算获得颗粒的粒径分布n(x):

n(x)=-2πxF2k2θminθmaxJ1()Y1()d[θ3I(θ)·A(θ)]]]>

式中,补偿因子u为含可调参数m的θ的函数,可调参数m取值范围为2.00-4.00,θ为散射角,F为物镜的焦距,k为波数,J1(xθ)为第一类的第一级Bessel函数,Y1(xθ)是第二类的第一级Bessel函数,I(θ)为步骤3中获得的散射谱光强度分布,θmin为实际采样最小角,θmax为实际采样最大角;

步骤6、观察步骤5获得的颗粒粒径分布,若发现单峰两侧呈现较大波动或相邻的分布峰之间没有较清楚的区分开,则调节参数m,并重复步骤5,直到获得理想的测量结果。

2.根据权利要求1所述的基于shifrin变换的粒径分布测量方法,其特征在于:θmin的取值范围为:0.2°~0.7°,θmax的取值范围为:4.0°~7.0°。

3.根据权利要求1所述的基于shifrin变换的粒径分布测量方法,其特征在于:使用的测量设备依次包括有激光发生器、衰减器、扩束系统、准直镜、可变光阑、样品盒、物镜、楔形挡块、图像传感器、检测电路、数据采集卡、计算机,所述楔形挡块的尖部遮挡住物镜焦平面的中央亮斑区域。

4.根据权利要求3所述的基于shifrin变换的粒径分布测量方法,其特征在于:所述图像传感器为CCD传感器。

5.根据权利要求3所述的基于shifrin变换的粒径分布测量方法,其特征在于:所述激光发生器为He-Ne激光器。

6.根据权利要求1所述的基于shifrin变换的粒径分布测量方法,其特征在于:当测量样品粒径分布为单峰时,参数m的最佳取值范围为2.00-3.00;当测量样品的粒径分布为多峰时,参数m的最佳取值范围为3.00-4.00,m精确到百分位。

7.根据权利要求1所述的基于shifrin变换的粒径分布测量方法,其特征在于:所述颗粒的粒径分布n(x)是颗粒质量按粒径的分布。

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