[发明专利]适用于超大口径光学加工的磁流变抛光装置有效

专利信息
申请号: 201410120264.0 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN103921176B 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: 罗霄;任楷;胡海飞;郑立功;张学军 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙)22210 代理人: 南小平
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 适用于 超大 口径 光学 加工 流变 抛光 装置
【权利要求书】:

1.一种适用于超大口径光学加工的磁流变抛光装置,其特征在于,包括:

磁流变液抛光装置,其包括提供磁场的磁铁装置;所述磁铁装置的下端的下侧面设有一水平突起段;

磁流变液循环装置,其使磁流变液循环流经所述水平突起段时,在与流动方向垂直的磁场的作用下形成缎带突起;

所述磁铁装置为一底部设有永磁铁的磁铁盒;所述磁铁盒外部设有沿磁流变液循环流动方向传动的皮带。

2.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置,其特征在于,所述磁铁装置为一装有两列多条条形永磁铁的磁铁盒;两列条形永磁铁的顶部以软铁连接,底部分别设有软铁。

3.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置,其特征在于,所述磁铁盒底部的水平突起段设有多个喷出气体的微孔。

4.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置,其特征在于,所述磁铁盒底部的水平突起段设有低摩擦系数塑料涂层。

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