[发明专利]FET感测单元及提高其灵敏度的方法有效

专利信息
申请号: 201410120539.0 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN104614430B 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 陈东村;黄睿政;温清华;郑钧文;刘怡劭 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G01N27/414 分类号: G01N27/414
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 代理人: 章社杲,孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: fet 单元 提高 灵敏度 方法
【权利要求书】:

1.一种场效应晶体管感测器件,包括:

第一介电层,位于衬底上方;

有源层,位于所述第一介电层上方;

源极区,位于所述有源层中;

漏极区,位于所述有源层中;

沟道区,位于所述有源层中,介于所述源极区和所述漏极区之间;

感测膜,位于所述沟道区上方;

第二介电层,位于所述有源层上方;

电极,位于所述第二介电层内;以及

流体栅极区,位于所述第二介电层以及所述感测膜上方,其中,所述流体栅极区是腔体,所述电极限定所述腔体的位于所述第二介电层中的侧壁的一部分,所述感测膜限定所述腔体的位于所述第二介电层中的底部。

2.根据权利要求1所述的器件,包括:

第三介电层,位于所述流体栅极区上方。

3.根据权利要求1所述的器件,包括:

一个或多个进口,连接至所述流体栅极区。

4.根据权利要求1所述的器件,其中,所述电极包括Cu、W、Ti、Ta、Cr、Pt、Ag、Au、TiN、TaN、NiSi和CoSi中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的器件,其中,所述感测膜包括SiO2、Si3N4、Al2O3、TiO2、HfO2、Ta2O5、TiN、SnO、SnO2、Pt、Cr、Au、Al、W和Cu中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的器件,包括:

受体,设置在所述感测膜上。

7.根据权利要求6所述的器件,其中,所述受体包括酶、抗体、配体、缩氨酸、核苷酸、器官细胞、生物体和组织片段中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的器件,包括:

第一线,用于将第一器件连接至第二器件,其中,所述第一器件和所述第二器件设置在阵列中。

9.一种场效应晶体管感测器件,包括:

第一介电层,位于衬底上方;

有源层,位于所述第一介电层上方;

源极区,位于所述有源层中;

漏极区,位于所述有源层中;

沟道区,位于所述有源层中,介于所述源极区和所述漏极区之间;

感测膜,位于所述沟道区上方;

第二介电层,位于所述有源层上方,其中,在所述第二介电层中形成开口并且所述感测膜位于所述开口内;

第一电极,位于所述第二介电层内;以及

流体栅极区,位于所述第二介电层上方并且延伸到所述开口中,其中,所述流体栅极区是腔体,所述第一电极限定所述腔体的延伸到所述开口中的侧壁的一部分,所述感测膜限定所述腔体的延伸到所述开口中的底部。

10.根据权利要求9所述的器件,包括:

第二电极,位于所述第二介电层内。

11.根据权利要求9所述的器件,包括:

第三介电层,位于所述流体栅极区上方。

12.根据权利要求9所述的器件,包括:

一个或多个进口,连接至所述流体栅极区。

13.根据权利要求9所述的器件,其中,所述电极包括Cu、W、Ti、Ta、Cr、Pt、Ag、Au、TiN、TaN、NiSi和CoSi中的至少一种。

14.根据权利要求9所述的器件,其中,所述感测膜包括SiO2、Si3N4、Al2O3、TiO2、HfO2、Ta2O5、TiN、SnO、SnO2、Pt、Cr、Au、Al、W和Cu中的至少一种。

15.根据权利要求9所述的器件,包括:

受体,设置于所述感测膜上。

16.根据权利要求15所述的器件,其中,所述受体包括酶、抗体、配体、缩氨酸、核苷酸、器官细胞、生物体和组织片段中的至少一种。

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