[发明专利]FET感测单元及提高其灵敏度的方法有效
申请号: | 201410120539.0 | 申请日: | 2014-03-27 |
公开(公告)号: | CN104614430B | 公开(公告)日: | 2017-12-05 |
发明(设计)人: | 陈东村;黄睿政;温清华;郑钧文;刘怡劭 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G01N27/414 | 分类号: | G01N27/414 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人: | 章社杲,孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | fet 单元 提高 灵敏度 方法 | ||
1.一种场效应晶体管感测器件,包括:
第一介电层,位于衬底上方;
有源层,位于所述第一介电层上方;
源极区,位于所述有源层中;
漏极区,位于所述有源层中;
沟道区,位于所述有源层中,介于所述源极区和所述漏极区之间;
感测膜,位于所述沟道区上方;
第二介电层,位于所述有源层上方;
电极,位于所述第二介电层内;以及
流体栅极区,位于所述第二介电层以及所述感测膜上方,其中,所述流体栅极区是腔体,所述电极限定所述腔体的位于所述第二介电层中的侧壁的一部分,所述感测膜限定所述腔体的位于所述第二介电层中的底部。
2.根据权利要求1所述的器件,包括:
第三介电层,位于所述流体栅极区上方。
3.根据权利要求1所述的器件,包括:
一个或多个进口,连接至所述流体栅极区。
4.根据权利要求1所述的器件,其中,所述电极包括Cu、W、Ti、Ta、Cr、Pt、Ag、Au、TiN、TaN、NiSi和CoSi中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的器件,其中,所述感测膜包括SiO2、Si3N4、Al2O3、TiO2、HfO2、Ta2O5、TiN、SnO、SnO2、Pt、Cr、Au、Al、W和Cu中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的器件,包括:
受体,设置在所述感测膜上。
7.根据权利要求6所述的器件,其中,所述受体包括酶、抗体、配体、缩氨酸、核苷酸、器官细胞、生物体和组织片段中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的器件,包括:
第一线,用于将第一器件连接至第二器件,其中,所述第一器件和所述第二器件设置在阵列中。
9.一种场效应晶体管感测器件,包括:
第一介电层,位于衬底上方;
有源层,位于所述第一介电层上方;
源极区,位于所述有源层中;
漏极区,位于所述有源层中;
沟道区,位于所述有源层中,介于所述源极区和所述漏极区之间;
感测膜,位于所述沟道区上方;
第二介电层,位于所述有源层上方,其中,在所述第二介电层中形成开口并且所述感测膜位于所述开口内;
第一电极,位于所述第二介电层内;以及
流体栅极区,位于所述第二介电层上方并且延伸到所述开口中,其中,所述流体栅极区是腔体,所述第一电极限定所述腔体的延伸到所述开口中的侧壁的一部分,所述感测膜限定所述腔体的延伸到所述开口中的底部。
10.根据权利要求9所述的器件,包括:
第二电极,位于所述第二介电层内。
11.根据权利要求9所述的器件,包括:
第三介电层,位于所述流体栅极区上方。
12.根据权利要求9所述的器件,包括:
一个或多个进口,连接至所述流体栅极区。
13.根据权利要求9所述的器件,其中,所述电极包括Cu、W、Ti、Ta、Cr、Pt、Ag、Au、TiN、TaN、NiSi和CoSi中的至少一种。
14.根据权利要求9所述的器件,其中,所述感测膜包括SiO2、Si3N4、Al2O3、TiO2、HfO2、Ta2O5、TiN、SnO、SnO2、Pt、Cr、Au、Al、W和Cu中的至少一种。
15.根据权利要求9所述的器件,包括:
受体,设置于所述感测膜上。
16.根据权利要求15所述的器件,其中,所述受体包括酶、抗体、配体、缩氨酸、核苷酸、器官细胞、生物体和组织片段中的至少一种。
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