[发明专利]污染物测量基底、设备及使用该设备制造基底的方法

权利要求书

1.一种用于制造基底的设备，所述用于制造基底的设备包括：

室，提供在其中执行工艺的空间；

污染物测量基底，包括被构造为收集污染物的基础材料以及位于基础材料上并限定基础材料的坐标的激光标记；

第一平台，设置在室内，污染物测量基底在室的污染物的收集期间被安置在第一平台上；

第二平台，设置在室的外侧，污染物测量基底在收集在污染物测量基底上的室的污染物的测量期间被安置在第二平台上；以及

污染物测量光源，设置在第二平台的上部，并且被构造为在收集在污染物测量基底上的室的污染物的测量期间利用光照射安置在第二平台上的污染物测量基底。

2.如权利要求1所述的用于制造基底的设备，其中，激光标记包括：

多条第一线，沿第一方向平行地设置；以及

多条第二线，沿与第一方向交叉的第二方向平行地设置。

3.如权利要求1所述的用于制造基底的设备，其中，激光标记包括沿第一方向和与第一方向交叉的第二方向设置的多个同心圆组。

4.如权利要求1所述的用于制造基底的设备，其中，室包括钢，基础材料包括具有比钢的负静电极性值小的负静电极性值的材料。

5.如权利要求1所述的用于制造基底的设备，其中，基础材料包括聚四氟乙烯。

6.如权利要求1所述的用于制造基底的设备，其中，污染物测量基底具有与室的颜色匹配的颜色。

7.如权利要求1所述的用于制造基底的设备，其中，污染物测量光源是紫外线光源。

8.如权利要求1所述的用于制造基底的设备，所述用于制造基底的设备还包括：

成像装置，设置在第二平台的上部，并且被构造为捕获在第二平台上安置的污染物测量基底的图像；以及

计数器，被构造为从污染物测量基底的图像对室的污染物进行计算。

9.一种制造基底的方法，所述制造基底的方法包括以下步骤：

准备包括基础材料和激光标记的污染物测量基底，基础材料被构造为收集污染物，激光标记位于基础材料上并且限定在污染物测量基底上的分别与基底的单位单元对应的多个单位区域；

将污染物测量基底安置在第一平台上并收集室的污染物，第一平台设置在室内，室提供在其中执行工艺的空间；

将污染物测量基底安置在设置在室外侧的第二平台上，并且通过使用污染物测量光源利用光照射污染物测量基底来测量针对所述多个单位区域收集的室的污染物；以及

将存在于所述多个单位区域中的各单位区域中的室的污染物的数量与参考值进行比较，并且确定存在于各单位区域中的室的污染物的数量是否超过参考值。

10.如权利要求9所述的制造基底的方法，其中，室包括钢，基础材料包括具有比钢的负静电极性值小的负静电极性值的材料。

11.如权利要求9所述的制造基底的方法，其中，污染物测量基底具有与室的颜色匹配的颜色。

12.如权利要求9所述的制造基底的方法，其中，测量室的污染物的步骤包括准备紫外线光源作为污染物测量光源。

13.如权利要求9所述的制造基底的方法，其中，测量室的污染物的步骤包括：

使用设置在第二平台的上部的成像装置来捕获污染物测量基底的图像；以及

使用计数器从污染物测量基底的图像计算室的污染物。

14.如权利要求9所述的制造基底的方法，所述制造基底的方法还包括：

在比较和确定的步骤中，当存在于各单位区域中的室的污染物的数量超过参考值时，确定室的与各单位区域相邻的部分，

当存在于各单位区域中的室的污染物的数量小于参考值时，将基底送入室中以对基底执行工艺。