[发明专利]一种磷灰石型硅酸铽磁光晶体及其制备方法无效
申请号: | 201410120913.7 | 申请日: | 2014-03-28 |
公开(公告)号: | CN103834998A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 陈新;万琦萍;张文辉;陈建中;郭飞云;庄乃锋;宫仲亮 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | C30B29/34 | 分类号: | C30B29/34;C30B15/00;C30B33/02 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省福州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磷灰石 硅酸 铽磁光 晶体 及其 制备 方法 | ||
1.一种磷灰石型硅酸铽磁光晶体,其特征在于:该晶体的分子式为:Tb10-x(SiO4)6O3-1.5x,其中x=0-2,属六方晶系,空间群为 。
2.一种制备如权利要求1所述的磷灰石型硅酸铽磁光晶体的方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)初始原料的合成:按Tb10-x(SiO4)6O3-1.5x化学计量比准确称取Tb4O7和SiO2,将它们研磨均匀、压片,然后进行高温烧结,获得晶体生长所需的初始原料;
(2)单晶生长:将初始原料装入晶体生长的坩埚容器中,放入单晶提拉炉内,使其在惰性气体的气氛下进行单晶提拉,其生长温度为1900~2000℃,生长速度为0.5~2.0mm/h,晶体转速为7~30r/min;
(3)晶体退火;当晶体生长结束后,将晶体提升,高出熔体表面1~3mm,然后缓慢退火至室温,降温速率为5~60℃/h,即得到磷灰石型硅酸铽磁光晶体毛坯。
3.根据权利要求2所述的磷灰石型硅酸铽磁光晶体的制备方法,其特征在于:晶体生长所使用的坩埚容器是由高熔点材料制成,高熔点材料是指熔点在2000℃以上的金属或合金材料。
4.根据权利要求3所述的磷灰石型硅酸铽磁光晶体的制备方法,其特征在于:晶体生长所使用的坩埚容器是铱金坩埚。
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