[发明专利]叠层标记

权利要求书

1.一种叠层标记，包括：形成在半导体衬底或其外延层中一层中的前层测量标记和形成在该层后一层中同一位置的后层测量标记，其特征在于，所述叠层标记还包括均匀分布在所述前层测量标记和后层测量标记两侧空白处的虚设图案，所述虚设图案包括与前层测量标记位于同一层的第一虚设图案和与后层测量标记位于同一层的第二虚设图案，所述后层测量标记的图案为四个条形图形围成的方形框，所述第二虚设图案包括至少一组条形图形和一块状图形，每组条形图形平行分布于后层测量标记的图案的外侧，所述块状图形位于后层测量标记的图案的内侧，所述虚设图案的信号强度小于前层测量标记和后层测量标记的信号强度。

2.如权利要求1所述的叠层标记，其特征在于，所述前层测量标记的图案为四个条形图形围成的方形框，前层测量标记的方形框比后层测量标记的方形框的面积大。

3.如权利要求2所述的叠层标记，其特征在于，所述前层测量标记和所述后层测量标记的条形图形的宽度为8～12μm。

4.如权利要求2所述的叠层标记，其特征在于，所述第一虚设图案包括多组条形图形，每组条形图形均匀平行分布于前层测量标记的条形图形的两侧。

5.如权利要求4所述的叠层标记，其特征在于，所述第一虚设图案的条形图形的尺寸为前层测量标记的条形图形的尺寸的10％～20％。

6.如权利要求2所述的叠层标记，其特征在于，所述第二虚设图案的条形图形的尺寸为所述后层测量标记的条形图形的尺寸的10％～20％。

7.如权利要求2或6所述的叠层标记，其特征在于，所述虚设图案的条形图形的宽度为1～2μm。