[发明专利]一种用水调节结构

说明书

技术领域

本发明涉及一种控水机构，具体是指一种用水调节结构。

背景技术

配电柜（箱）分动力配电柜（箱）和照明配电柜（箱）、计量柜（箱），是配电系统的末级设备。配电柜是电动机控制中心的统称，配电柜使用在负荷比较分散、回路较少的场合；电动机控制中心用于负荷集中、回路较多的场合，它们把上一级配电设备某一电路的电能分配给就近的负荷，这级设备应对负荷提供保护、监视和控制。

在配电柜的生产加工时，从原材料的切割到最后配电柜成品的喷漆处理，会产生较多的废料残渣和油污、油漆，为保证生产车间的干净整洁，需要及时地对其进行清理；最常见的处理方法便是利用水冲洗，期间会使用到较大用量的水，为降低用水量，通常采用控水阀门，但长时间的使用控水阀门受到强压水流的冲击很容易受损，进而影响调节水流量的效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用水调节结构，减小水流对壳体内部的冲击，提高供水控制的精确度。

本发明的目的通过下述技术方案实现：

一种用水调节结构，包括壳体，所述壳体上端设置有外螺纹，所述壳体的下端设置有内螺纹，在所述壳体内部设置有密封腔体，在密封腔体的顶部安装有滤网，密封腔体的底部开个多个环形阵列分布的限流孔，在密封腔体的轴心处设置中心杆，中心杆的中部滑动设置有密封机构，所述中心杆底端设置有挡板，挡板上安装有弹簧，弹簧的一端与密封机构连接。本发明工作时，水流由壳体上端流出，在滤网的过滤作用下进入到密封腔体，当水流过小时对密封机构产生的冲击较小，水流以稳定的速度直接从密封腔体底部的环形阵列分布的限流孔中流出；当水流过大时，水流以较大的冲量形成对密封机构的冲击，并且在水流在密封腔体内积累到一定程度时，密封机构受到水压以及水流冲击的影响沿中心杆轴向运动，与密封机构的底部连接的弹簧被压缩，使得密封机构自动将限流孔内遮挡，进而减少了水量的流出，避免了水流在限流孔处形成喷射对于壳体连接的设备造成冲击，当密封腔体内水量降低时，水压与水流对密封机构的影响减小，压缩的弹簧回复将密封机构上顶，进而增大了限流孔中水流的通过量，以此往复，使得从限流孔中流出的液体始终保持稳定的速度，降低了水流对壳体内壁以及外部连接设备的冲击。

所述密封机构包括密封盖，所述密封盖为弧形，在所述密封盖底部开有球形凹槽，中心杆贯穿球形凹槽底部，球形凹槽的底部安装有环形凸起，所述挡板上开有环形凹槽，环形凹槽与环形凸起啮合，且环形凸起的端面与弹簧相连。弧形的密封盖可将环形阵列分布在密封腔体中心的限流孔遮挡，起到稳定控制的水流流出的作用，当密封腔体内水量积累较多时，产生的较大的水压，再加上不停流进密封腔体内的水流，使得密封盖上受力不均匀，环形凸起与环形凹槽相啮合，保证了密封盖的调节中的稳定性，避免了密封盖发生侧偏。

还包括嵌入滤网中的保护筒，所述保护筒的下端端部安装有锥形盖板，中心杆的顶端设置在保护筒中。密封盖滑动设置在中心杆上，液体流进密封腔体后会对密封盖产生直接的冲击，降低了密封盖的性能和使用寿命；保护筒下端端部设置的锥形盖板可对水流进行一定阻挡和分散，降低密封盖的磨损，延长其使用寿命。

还包括密封垫圈，所述密封垫圈安装在密封盖上。为避免液体对密封盖和中心杆的侵蚀，在密封盖的上方安装密封垫圈，保证密封盖在中心杆的稳定滑动。

所述弹簧为扭转弹簧。由于密封盖受水流和水压的影响，密封盖上的受力不均匀，因此各弹簧所受的压力大小不同，长时间的使用会导致部分弹簧过度使用，而剩余部分的弹簧完好无缺，进而造成密封盖的调节水流流出量作用降低，扭转弹簧可进行多方向的拉伸或是压缩，其稳定的伸缩性能可保证控水机构的长期使用。

本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

1、本发明一种用水调节结构，包括壳体，所述壳体上端设置有外螺纹，所述壳体的下端设置有内螺纹，在所述壳体内部设置有密封腔体，在密封腔体的顶部安装有滤网，密封腔体的底部开个多个环形阵列分布的限流孔，在密封腔体的轴心处设置中心杆，中心杆的中部滑动设置有密封机构，所述中心杆底端设置有挡板，挡板上安装有弹簧，弹簧的一端与密封机构连接；在水流在密封腔体内积累到一定程度时，密封机构受到水压以及水流冲击的影响沿中心杆轴向运动，与密封机构的底部连接的弹簧被压缩，使得密封机构自动将限流孔内遮挡，进而减少了水量的流出，避免了水流在限流孔处形成喷射对于壳体连接的设备造成冲击；

2、本发明一种用水调节结构，为避免液体对密封盖和中心杆的侵蚀，在密封盖的上方安装密封垫圈，保证密封盖在中心杆的稳定滑动；