[发明专利]一种光配向设备及其制作方法

权利要求书

1.一种光配向设备，其包括：

灯箱，用于照射偏振紫外光；

紫外光垂直配向掩模板，其包括遮光部和透光部，用于选择性透过紫外光；

机台，用于放置需要进行光配向的基板；

从所述灯箱照射出所述偏振紫外光，其以一倾斜角照射到所述紫外光垂直配向掩模

板上，部分所述紫外光被照射在所述紫外光垂直配向掩模板的所述遮光部遮挡，另

一部分所述紫外光照射到所述紫外光垂直配向掩模板的所述透光部，所述紫外光透

过所述紫外光垂直配向掩模板后，以所述倾斜角照射到放置在所述机台上的所述基

板上。

2.根据权利要求1所述的光配向设备，其特征在于：所述紫外光从所述基板的垂直左上方照射，且所述紫外光的入射面方向与所述基板的运动面方向空间垂直。

3.根据权利要求1所述的光配向设备，其特征在于：所述倾斜角的范围为30～90度。

4.根据权利要求2所述的光配向设备，其特征在于：所述机台上的所述基板为横向放置或纵向放置。

5.根据权利要求1所述的光配向设备，其特征在于：所述基板为阵列基板和/或彩膜基板。

6.一种光配向设备的制作方法，其包括权利要求1-5之一所述的光配向设备，具体包括以下步骤：

a)提供紫外光垂直配向掩模板，将阵列基板放置在所述机台上，所述紫外光垂直配向掩模板将所述阵列基板上每个子像素的左侧遮住，调整所述紫外光的照射方向，使所述紫外光从所述阵列基板的垂直左上方照射到子像素的右侧，且所述紫外光的入射面方向与所述阵列基板的运动面方向空间垂直，从而形成所述子像素的所述右侧区域的配向方向；

b）保持所述紫外光和所述机台上的所述阵列基板运行方向不变，所述紫外光垂直配向掩模板将所述阵列基板上的每个所述子像素的右侧遮住，使得所述紫外光照射到所述子像素的左侧，形成所述子像素左侧配向方向；

c）提供所述紫外光垂直配向掩模板，将彩膜基板放置在所述机台上，并将所述彩膜基板相对于所述阵列基板的放置方向逆时针转动90度，将所述彩膜基板上每个子像素的下侧遮住，调整紫外光的照射方向，使所述紫外光从所述彩膜基板的垂直左上方照射到子像素的上侧，且所述紫外光的入射面方向与所述彩膜基板的运动面方向空间垂直，从而形成所述子像素上侧配向方向；

d）保持所述紫外光和所述机台上的所述彩膜基板运行方向不变，所述紫外光垂直配向掩模板将所述彩膜基板上每个所述子像素的上侧遮住，使得所述紫外光照射到所述子像素的下侧，形成所述子像素下侧配向方向。

7.根据权利要求6所述的光配向设备的制作方法，其特征在于：所述机台上的所述阵列基板和所述彩膜基板分别为横向放置或纵向放置。