[发明专利]一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法

权利要求书

1.一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法，以图形化的光刻胶作为牺牲层，采用在有机溶剂中超声剥离的方法使铁电薄膜钛酸锶钡图形化；具体步骤如下：

（1）清洗基片及光刻显影

(a)将基片放入有机溶剂中超声清洗10-20分钟，用去离子水冲洗后在氮气流中干燥；

(b)将光刻胶旋涂在基片上，厚度1um-4um，烘干后使用光刻掩膜版做曝光处理；

(c)使用显影液将图形显影出来，获得图形化的光刻胶；

(d)显影完成后，使用台阶仪测试曝光部分基片的平整度，以保证显影完全；

（2）将步骤（1）光刻显影后的基片放入磁控溅射仪真空室中，在相应的射频靶上装置铁电材料钛酸锶钡靶材，使用射频磁控溅射的方法溅射铁电薄膜；

（3）当磁控溅射仪真空室的真空度<6×10^-6Torr时，开启射频源，通入工作气体，使用射频磁控溅射的方法进行铁电薄膜钛酸锶钡的沉积；

（4）步骤（3）结束后，取出基片，在有机溶剂中对基片进行剥离，制得图形化的铁电薄膜钛酸锶钡；

（5）将步骤（4）制得的图形化的铁电薄膜钛酸锶钡在空气气氛退火炉中退火，退火温度为750℃，退火时间为15分钟；

（6）采用台阶仪对制品的薄膜厚度，以及表面的不均匀度和线粗糙度进行测试。

2.根据权利要求1所述的一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法，其特征在于，所述步骤（1）(a)的基片为普通玻璃基片、Si基片或者Al₂O₃基片。

3.根据权利要求1所述的一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法，其特征在于，所述步骤（1）(a)的有机溶剂为丙酮或者酒精。

4.根据权利要求1所述的一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法，其特征在于，所述步骤（2）的溅射用介质靶材采用传统固相反应法合成，其相对密度大于95%。

5.根据权利要求1所述的一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法，其特征在于，所述步骤（3）的工作气体为氩气与氧气，通气量为85sccm和15sccm。