[发明专利]电容式触控装置及其制作方法有效
申请号: | 201410126878.X | 申请日: | 2014-03-31 |
公开(公告)号: | CN104951155B | 公开(公告)日: | 2019-05-17 |
发明(设计)人: | 高国峯;黄松建;蔡宏育;吕正源 | 申请(专利权)人: | 宸盛光电有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人: | 张雅军 |
地址: | 中国香港铜锣湾希慎道*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明绝缘层 电容式触控装置 透明导电膜层 感应线路 图案化 透明基板单元 折射率实质 彼此电性 电性隔绝 纳米导体 不透明 匹配膜 蚀刻线 省略 薄化 配置 制作 | ||
一种电容式触控装置包含一个透明基板单元及至少一个图案化透明导电膜层。该图案化透明导电膜层形成于该透明基板单元上并具有一个透明绝缘层,及多个实质配置于该透明绝缘层中且彼此电性隔绝的感应线路,各感应线路是实质由多个不透明纳米导体所制成。各感应线路是配置于折射率实质相同的透明绝缘层中,并借该透明绝缘层提供电性隔绝,能消除图案化透明导电膜层的蚀刻线,同时省略光学匹配膜层以节省制作成本并使电容式触控装置达到薄化的功效。
技术领域
本发明涉及一种触控装置(touch device),特别是涉及一种电容式触控装置及其制作方法。
背景技术
近年来,随着触控技术不断地发展,触控装置已广泛应用于诸如手机、个人数字助理(PDA)、游戏机输入接口、电脑触控屏等各种电子产品中。在实际应用中,触控装置通常与一平面显示器(flat panel display,FPD)相结合形成触控面板(touch panel),安装于各式电子产品上,使用者通过触控面板输入数据和指令,取代了诸如键盘、鼠标等传统输入装置,给使用者带来极大的方便性。
一般而言,电容式触控装置的透明导电基板主要是由透明基板和图案化(patterned)透明导电层所构成。前述透明导电基板的制法主要是在不具导电性的一透明基板上镀上一透明导电层,其通常是采用透明金属氧化物,如氧化铟锡(indium tinoxide,简称ITO)等。后续,再对该透明导电层依序施予黄光制程(photolithographyprocess)与蚀刻制程以形成一具有预定图案的透明导电层(如,形成以单向间隔排列或双向交错排列的电极图案),并做为电容式触控装置的感应电极层使用。前述电极图案包括ITO区域(即电极区域)和蚀刻区域,蚀刻区域上无导电薄膜ITO,光线可直射至透明基板上。然而,由于两个区域对光线的折射率(refractive index)互不相同,使用者能清楚地观察到ITO区域和蚀刻区域交接处的蚀刻线,此将严重地影响触控面板的外观视觉效果。
为改善前述问题,此技术领域的相关技术人员多半是采用光学匹配(indexmatch,IM)膜层来改善。参图1,显示有一种现有的降低图案化ITO层蚀刻线明亮度的方法,其主要是先在一聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)膜11上沉积一个IM膜层12;进一步地,于该IM膜层12上沉积一个ITO层13;最后,对该ITO层13施予图案化处理,从而形成一图案化ITO层14;其中,该IM膜层12通常是由多个轮流堆叠的高折射率介电(dielectrics)层(如,Nb2O5)与低折射率介电层(如,SiO2)所构成。前述IM膜层12虽然可以削减图案化ITO层的蚀刻线明亮度;然而,此IM膜层12的总厚度甚高,不仅制作耗时,更提升制作成本。再者,此IM膜层12也对触控面板的薄化造成了阻碍。
经上述说明可知,减低图案化透明导电层的蚀刻线明亮度以提升触控面板的显示效果,同时节省电容式触控装置的制作成本并使电容式触控装置得以达到薄化,是此技术领域的相关技术人员所需改进的课题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种电容式触控装置。
本发明的另一目的,在于提供一种电容式触控装置的制作方法。
本发明电容式触控装置,包含一个透明基板单元,及至少一个图案化透明导电膜层。该图案化透明导电膜层形成于该透明基板单元上,并具有一个透明绝缘层,及多个实质配置于该透明绝缘层中且彼此电性隔绝的感应线路,各感应线路是实质由多个不透明纳米导体所制成。
本发明所述的电容式触控装置,所述不透明纳米导体的外观形状是球状、长条状,或碟状。
本发明所述的电容式触控装置,所述不透明纳米导体是外观形状为长条状的纳米银线(Ag nano-wires),且该透明绝缘层是由一高分子(polymer)材料所制成。
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