[发明专利]一种双层涂层及其涂覆方法

权利要求书

1. 一种双层涂层，其特征在于：该双层涂层是在有机底涂层之上涂覆无机面涂层形成。

2. 根据权利要求1所述的双层涂层，其特征在于：所述的有机底涂层包括醇酸树脂涂层、聚酯树脂涂层、聚氨酯树脂涂层、环氧树脂涂层、丙烯酸树脂涂层、聚烯烃树脂涂层、酚醛树脂涂层、氨基树脂涂层、有机硅树脂涂层或氟树脂涂层。

3. 根据权利要求1或2所述的双层涂层，其特征在于：所述的无机面涂层由两组分组成，第一组分与第二组分的重量比为1～3：1，其中第一组分由30～100%硅溶胶、0～3%添加剂、0～3%珠光粉和0～65%水组成，第二组分由49～99.9%烷氧基硅烷、0.1～1%乙酸和0～50%异丙醇组成。

4. 根据权利要求3所述的双层涂层，其特征在于：第二组分中乙酸的含量为0.1-0.5%。

5. 根据权利要求1所述的双层涂层，其特征在于：所述的硅溶胶pH为2-11，粒径为5-50nm，二氧化硅含量为20-50%。

6. 根据权利要求1所述的双层涂层，其特征在于：所述的烷氧基硅烷，具有以下分子通式：R_nSi(OR’)_4-n，其中：R为烷基、芳基、取代烷基或取代芳基；R’为C₁ –C₅烷基；n=1、2或0。

7. 根据权利要求6所述的双层涂层，其特征在于：烷氧基硅烷是四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷低聚体、四乙氧基硅烷低聚体、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷低聚体或环化物、二甲基二乙氧基硅烷低聚体或环化物、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷低聚体或环化物、二苯基二乙氧基硅烷低聚体或环化物和含环氧基团烷氧基硅烷中的一种或多种。

8. 一种权利要求1所述的在有机底涂层之上涂覆无机面涂层的双层涂层的涂覆方法，包括以下步骤：

a，将金属基材进行碱洗、喷砂或电化前处理；

b，将经a步骤处理后的基材喷涂有机底涂层，在80-180℃温度下流平烘干；

c，将混合好的无机面涂层喷涂在有机底涂层之上；

d，将c步骤得到的基材在室温下流平，再逐渐升温到有机底涂层的烧结温度进行烧结，得到双层涂层。