[发明专利]单烷基次膦酸盐的脱除工艺及产品、应用

权利要求书

1.一种单烷基次膦酸盐的脱除工艺，包括如下步骤：

第一步：在含有单烷基次膦酸和/或其盐和二烷基次膦酸和/或其盐的混合物中，加入氧化剂，其中氧化剂为次氯酸盐，氧化反应的温度为0-150℃，氧化反应的压力为1-50个大气压，氧化反应完成，后处理得到脱除单烷基次膦酸和/或其盐的二烷基次膦酸和/或其盐的产物；

任选进入第二步：将制备得到的脱除单烷基次膦酸和/或其盐的二烷基次膦酸和/或其盐的产物与Mg、Ca、Al、Zn、Ti、Sn、Zr和Fe化合物中的一种或多种进行置换反应或中和反应制备相应的二烷基次膦酸盐。

2.根据权利要求1所述的单烷基次膦酸盐的脱除工艺，其特征在于，所述二烷基次膦酸盐为Li、Na、K、Mg、Ca、Ba、Fe、Zr、Sn、Al、Sr、Sb、Ge、Ti、Zn盐中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的单烷基次膦酸盐的脱除工艺，其特征在于，所述烷基为1-18碳的烷基、环烷基、苯基、苯甲基、烷基取代的苯基或烷氧基酮基。

4.根据权利要求1所述的单烷基次膦酸盐的脱除工艺，其特征在于，所述含有单烷基次膦酸和/或其盐和二烷基次膦酸和/或其盐的混合物中，单烷基次膦酸和/或其盐的摩尔百分比含量为0.01-10%。

5.根据权利要求1所述的单烷基次膦酸盐的脱除工艺，其特征在于，所述氧化剂为次氯酸钙或次氯酸钠。

6.根据权利要求1所述的单烷基次膦酸盐的脱除工艺，其特征在于，所述氧化剂与单烷基次膦酸和/或其盐的摩尔比为1-10:1。

7.根据权利要求1所述的单烷基次膦酸盐的脱除工艺，其特征在于，氧化反应的温度为25-125℃；氧化反应的压力为1-30个大气压。

8.根据权利要求1所述的单烷基次膦酸盐的脱除工艺，其特征在于，第二步中，反应的温度为0-100℃。

9.一种含有烷基膦酸盐的二烷基次膦酸盐，其特征在于，烷基膦酸盐的摩尔百分比含量为0.01-10%。

10.一种含有烷基膦酸盐的二烷基次膦酸盐在制备阻燃性高分子材料中应用，其特征在于，含有烷基膦酸盐的二烷基次膦酸盐中，烷基膦酸盐的摩尔百分比含量为0.01-10%。

11.根据权利要求10所述的含有烷基膦酸盐的二烷基次膦酸盐在制备阻燃性高分子材料中应用，其特征在于，所述阻燃性高分子材料中，含有烷基膦酸盐的二烷基次膦酸盐的重量百分比含量为5-30%。

12.根据权利要求10所述的含有烷基膦酸盐的二烷基次膦酸盐在制备阻燃性高分子材料中应用，其特征在于，还包括三聚氰胺聚磷酸盐。

13.根据权利要求10所述的含有烷基膦酸盐的二烷基次膦酸盐在制备阻燃性高分子材料中应用，其特征在于，所述的高分子材料包括聚酰胺、聚酯、尼龙6、尼龙6/6、聚烯烃、环氧树脂中的一种或多种。