[发明专利]控制工业微波设备的温度的方法及装置

权利要求书

1.一种控制工业微波设备的温度的方法，其特征在于，包括：

处理器计算当前采样点温度变化的速度及加速度；

所述处理器根据所述当前采样点温度变化的速度及加速度计算经过预设时间后的采样点温度变化的速度，所述预设时间为预设采样周期的倍数值；

所述处理器计算所述经过预设时间后的采样点温度变化的速度与预先设定的温度变化的速度的差值；

所述处理器根据所述差值对所述工业微波设备的输出功率进行调整，以使经过预设时间后所述差值为零。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

所述处理器依据目标温度及到达所述目标温度所需的时间计算预先设定的温度变化的速度。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述处理器计算当前采样点温度变化的速度具体包括：

获取当前采样点的第一温度值；

获取与所述当前采样点相邻的上一采样点的第二温度值；

计算所述第一温度值与所述第二温度值的差值与速度采样周期的商值，所述商值即为所述当前采样点温度变化的速度。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述处理器计算当前采样点温度变化的加速度具体包括：

获取当前采样点的第一速度；

获取与所述当前采样点相邻的上一采样点的第二速度；

计算所述第一速度与所述第二速度的差值与加速度采样周期的商值，所述商值即为所述当前采样点温度变化的加速度，其中，所述加速度采样周期大于所述速度采样周期。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述的方法，其特征在于，所述处理器为单片机。

6.根据权利要求1～4中任意一项所述的方法，其特征在于，所述处理器为可编程逻辑控制器PLC。

7.根据权利要求1～4中任意一项所述的方法，其特征在于，所述处理器为嵌入式系统。

8.一种控制工业微波设备的温度的装置，其特征在于，包括：

第一计算单元，用于计算当前采样点温度变化的速度及加速度；

第二计算单元，用于根据所述当前采样点温度变化的速度及加速度计算经过预设时间后的采样点温度变化的速度，所述预设时间为预设采样周期的倍数值；

第三计算单元，用于计算所述经过预设时间后的采样点温度变化的速度与预先设定的温度变化的速度的差值；

功率调整单元，用于根据所述差值对所述工业微波设备的输出功率进行调整，以使经过预设时间后所述差值为零。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，还包括：

第四计算单元，用于依据目标温度及到达所述目标温度所需的时间计算预先设定的温度变化的速度。

10.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述第一计算单元具体用于：

获取当前采样点的第一温度值；

获取与所述当前采样点相邻的上一采样点的第二温度值；

计算所述第一温度值与所述第二温度值的差值与速度采样周期的商值，所述商值即为所述当前采样点温度变化的速度；

获取当前采样点的第一速度；

获取与所述当前采样点相邻的上一采样点的第二速度；

计算所述第一速度与所述第二速度的差值与加速度采样周期的商值，所述商值即为所述当前采样点温度变化的加速度，其中，所述加速度采样周期大于所述速度采样周期。