[发明专利]一种金属支架表面改性方法

权利要求书

1.一种金属支架表面改性方法，包括如下步骤：

A、将金属支架分别在酒精和蒸馏水中超声清洗20～40分钟并取出，烘干待用；

B、打开高功率脉冲磁控溅射装置的真空室（2），安装纯度为99.99%的钛靶（8），将金属支架放入真空室（2）中样品台（3），关闭真空室（2），抽真空至0.5×10^-3Pa～2×10^-3Pa；

C、打开气阀（4），向真空室（2）内通入氩气至压力0.5～1.5Pa，打开溅射清洗电源，溅射清洗钛靶（8）10～20分钟，关闭气阀（4）及溅射清洗电源；

D、打开气阀（4），向真空室（2）内通入氩气至压力0.5～3.5Pa，打开偏压电源（6），在金属支架上施加-50～-1000V的偏压，对金属支架进行溅射清洗10～30分钟，然后关闭气阀（4）及偏压电源（6）；

E、打开气阀（4），向真空室（2）内通入氩气至压力0.5～2.0Pa，打开偏压电源（6），在金属支架上施加频率为1kHz～50kHz，占空比为10%～50%的脉冲偏压，打开高功率脉冲磁控溅射电源（1），在金属支架表面沉积10～45秒的纯钛薄膜，关闭气阀（4）、偏压电源（6）及高功率脉冲磁控溅射电源（1）；

F、打开气阀（4）和气阀（5），同时向真空室（2）内通入分压为0.05～0.2Pa的氧气和分压为0.5～2.0Pa的氩气；打开偏压电源（6），在金属支架上施加-20～-200V的偏压，打开高功率脉冲磁控溅射电源（1），在金属支架表面沉积5～25分钟的氧化钛薄膜，关闭气阀（4）和气阀（5）及高功率脉冲磁控溅射电源（1）；真空室（2）温度低于80℃时，停真空泵（7），取出金属支架。

2.根据权利要求1所述的一种金属支架表面改性方法，其特征在于，所述金属支架表面沉积的氧化钛薄膜的厚度为10～100nm。

3.根据权利要求1所述的一种金属支架表面改性方法，其特征在于：所述金属支架表面沉积的纯钛薄膜厚度为5～30nm。

4.根据权利要求1所述的一种金属支架表面改性方法，其特征在于：所述的过渡层为纯钛过渡层。

5.根据权利要求1所述的一种金属支架表面改性方法，其特征在于，所述脉冲偏压的范围为-100～-2000V。

6.根据权利要求1所述的一种金属支架表面改性方法，其特征在于，所述的高功率脉冲磁控溅射电源（1）对钛靶（8）放电电压为600～1200V，频率为50～1000Hz，脉宽为50～400μs。