[发明专利]一种光刻机垂向控制参数校准方法

权利要求书

1.一种光刻机垂向控制参数校准方法，其特征在于：包括如下步骤：

步骤1：初始化工件台、掩模台、掩模调焦调平传感器、同轴对准分系统；

步骤2：上载掩模版；

步骤3：将掩模对准标记运动到同轴对准位置；

步骤4：设置掩模台以指定步长在指定范围内垂向运动，工件台跟随掩模台运动；

步骤5：记录每一步测量得到的掩模调焦调平传感器与工件台光栅尺读数；重复步骤4直至掩模台完成所述指定范围内的垂向运动；

步骤6：计算工件台光栅尺与掩模调焦调平传感器两组数据的比例系数；

步骤7：以工件台光栅尺的测量数据计算得到的比例系数为基准更新掩模调焦调平传感器的比例系数；

所述步骤4还包括如下步骤：

步骤4.1：掩模台以指定步长垂向运动；

步骤4.2：工件台依据同轴对准搜索、测量得到的理想焦面位置跟随掩模台运动，记录每一步的对比度数据；

步骤4.3：根据工件台光栅尺垂向位置与对比度的数值找到极值点。

2.如权利要求1所述的光刻机垂向控制参数校准方法，其特征在于，通过将所述工件台光栅尺垂向位置与对比度的数值作最小二乘法高阶拟合，找到极值点。

3.如权利要求1所述的光刻机垂向控制参数校准方法，其特征在于，所述步骤4中的垂向运动范围依据掩模调焦调平传感器精测范围确定。

4.如权利要求1所述的光刻机垂向控制参数校准方法，其特征在于，所述步骤6中使用最小二乘法拟合两组数据的比例系数。