[发明专利]颗粒清理装置在审
申请号: | 201410138311.4 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN103926787A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 卞荣华;谢华;莫少文 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 颗粒 清理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,特别涉及一种颗粒清理装置。
背景技术
微影加工过程是半导体加工过程中的关键性步骤之一,特别是在组件尺寸日趋微细化的集成电路时代,使微影加工过程越来越受到本领域技术人员的重视。而已经普遍被使用于半导体制造的微影制程中的光罩成为不可忽略的工艺,光罩是将所需要的图案定义在半导体芯片的光致抗蚀层上,然后半导体芯片再进一步利用光致抗蚀层的图案作为基础,进行后续的蚀刻或离子布置处理。因此,光罩若出现了问题,即使对后续的曝光、显影、蚀刻等加工过程进行改善,也无法获得所要的图案,从而无法达到所需求的电路设计。
然而,光罩的洁净程度往往会是一个重要的问题,对于高精度的光罩(例如在微影制程中,使用波长等于或短于248nm的光罩)特别容易受影响而产生缺陷。造成光罩的不洁净的其中一种因素为薄雾污染。薄雾污染形成的主要原因,来自于光罩清洗剂的残留沉积物、不洁净的晶圆制造环境或是暴露于相互影响的设备环境中。通常对于制造环境或者设备环境中的颗粒的沉积物,采用人工手动利用异丙醇擦拭的方式进行清洁处理。这种方式存在的缺点是,制造环境或者设备环境中由颗粒沉积的沉淀物需要定期的人为清理,并且清理的不是很彻底,有些角落的颗粒不能有效的去除,耗费了大量的人力物力。
综上,亟需提供一种新的颗粒清理装置,以解决受制造环境或者设备环境中的颗粒清理洁净度不高,致使光罩的洁净度不高,造成光罩后续的工序出现误差的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种颗粒清理装置,以解决使用现有技术中人工手动擦拭设备环境中颗粒,颗粒清洁的效果不够彻底,致使光罩的洁净度不高及需要耗费大量的人力物力的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种颗粒清理装置,所述颗粒清理装置包括:驱动装置及与所述驱动装置连接的回收装置。
可选的,在所述的颗粒清理装置中,所述驱动装置为马达。
可选的,在所述的颗粒清理装置中,所述回收装置包括具有吸附性能的风扇,用于回收颗粒。
可选的,在所述的颗粒清理装置中,所述回收装置还包括与所述风扇连接的颗粒存放部件,用于存放回收的颗粒。
可选的,在所述的颗粒清理装置中,所述颗粒存放部件为一可拆卸的金属盒。
可选的,所述的颗粒清理装置还包括固定部件,与所述驱动装置连接,用于所述颗粒清理装置的固定。
可选的,在所述的颗粒清理装置中,所述固定部件为一搭扣。
可选的,在所述的颗粒清理装置中,所述固定部件的材质为金属
可选的,所述的颗粒清理装置还包括电源,与所述驱动装置连接,用于为所述颗粒清理装置提供能量。
在本发明所提供的颗粒清理装置中,通过驱动装置驱动回收装置对设备环境中的颗粒进行吸附回收,有效的对设备环境中角落处颗粒的清理,避免了人工手动擦拭需要耗费大量的人力物力且洁净效果不佳的现象,提高了设备环境颗粒的洁净度,进而提高了光罩的洁净度。
附图说明
图1是本发明一实施例中颗粒清理装置的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明提出的颗粒清理装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书,本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
请参考图1,其为本发明一实施例中颗粒清理装置的结构示意图,如图1所示,所述的适用于光刻机设备中的颗粒清理装置,包括:
驱动装置10及与所述驱动装置10连接的回收装置20。
优选的,所述驱动装置10为马达。现在人们通常所指的马达又称为电子启动器。它通过电磁感应带动起动机转子旋转,转子上的小齿轮带动发动机飞轮旋转,从而带动曲轴转动而使回收装置运转。
优选的,所述回收装置20包括具有吸附性能的风扇风扇22及与所述风扇22连接的颗粒存放部件21;其中,所述风扇用于回收颗粒,速搜颗粒存放部件21用于存放回收的颗粒。
具体的,当使用颗粒清理装置时,将其放置需要清理颗粒的环境中。由驱动装置10驱动所述回收装置20中的风扇22进行运转,当风扇22工作起来以后,室内的空气会流动起来,而空气中的颗粒会随之流动,具有吸附性能的风扇22的作用下,空气中的颗粒都会被吸附到颗粒存放部件22中,可以根据需要定期的清理颗粒存放部件22中所回收的颗粒。
优选的,所述颗粒存放部件21为一可拆卸的金属盒。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
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