[发明专利]用于清洁光掩模的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201410138840.4 申请日: 2014-04-08
公开(公告)号: CN104181781B 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 郭成昊;赵珉煐 申请(专利权)人: AP系统股份有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42;G03F1/82;B08B7/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 杨生平;钟锦舜
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 光掩模 残胶 金属板 激光发生器 表面指向 热量去除 清洁 去除 照射 激光 邻近 遗留
【权利要求书】:

1.一种用于清洁光掩模的设备,适合用于从光掩模去除残胶,其包括:

光掩模,其设置为使得残胶遗留在其上的表面指向下;

金属板,其邻近所述残胶形成;以及

激光发生器,其用于照射激光在所述金属板上使得所述残胶被从所述金属板生成的热量去除。

2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述金属板与所述残胶相隔50微米至100微米的间隔。

3.根据权利要求1所述的设备,其中,所述金属板包括SUS。

4.根据权利要求1所述的设备,其中,所述金属板被形成为与所述光掩模的防护膜框架的附接区域对应的平面矩形框架形状。

5.根据权利要求1所述的设备,其中,所述激光发生器设置为使得激光经由石英板从光掩模的上部照射在所述金属板上。

6.根据权利要求1所述的设备,其中,进一步邻近所述金属板形成抽吸单元,其用于抽吸在由从所述金属板生成的热量去除所述残胶时生成的气化材料。

7.一种清洁光掩模的方法,适合用于从光掩模去除残胶,其包括:

1)设置光掩模以使得残胶遗留在其上的表面指向下;

2)邻近所述残胶定位金属板;以及

3)照射激光至所述金属板上使得残胶被从所述金属板生成的热量去除。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,在步骤2)中,所述金属板和所述残胶之间的间隔是50微米至100微米。

9.根据权利要求7所述的方法,其中,所述金属板包括SUS。

10.根据权利要求7所述的方法,其中,在步骤3)中,照射激光同时激光沿着残胶以扫描方式移动。

11.根据权利要求10所述的方法,其中,激光在相同的位置停留0.05秒至0.5秒同时以0.02毫米/秒至0.07毫米/秒的速度以扫描方式移动。

12.根据权利要求7所述的方法,其中,步骤3)重复两次至十次。

13.根据权利要求7所述的方法,其中,激光经由石英板从光掩模的上部照射在金属板上。

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