[发明专利]光罩检测方法在审
申请号: | 201410138979.9 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN103913943A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 何理;许向辉;郭贤权;陈超 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 检测 方法 | ||
1.一种光罩检测方法,其特征在于,包括:
提供一控片,将待测光罩的图形转移到所述控片上;
对所述控片进行第一次缺陷扫描;
将所述控片旋转90°之后进行第二次缺陷扫描。
2.如权利要求1所述的光罩检测方法,其特征在于,所述控片上具有一缺口,根据所述缺口的位置确认所述控片的旋转角度。
3.如权利要求1所述的光罩检测方法,其特征在于,所述第一次缺陷扫描和第二次缺陷扫描均采用同一扫描设备。
4.如权利要求3所述的光罩检测方法,其特征在于,所述扫描设备采用横向重复单元对比法或纵向重复单元对比法。
5.如权利要求2所述的光罩检测方法,其特征在于,在进行第一次缺陷扫描之前,在将待测光罩的图形转移到所述控片上之后,还包括:根据产品和工艺设定所述扫描设备的参数。
6.如权利要求1所述的光罩检测方法,其特征在于,所述图形包括多个单元图形,所述多个单元图形组成阵列。
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