[发明专利]一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置

权利要求书

1.一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，其包括旋钮（1）、下辊台（2）、上辊架（3）、螺钉（4）、样品（5）、高度可调平台（6）、压力传感器（7）、支架（8）和底座（9），其中， 

上辊架（3）和支架（8）的数量各为两个，所述的支架（8）位于底座（9）上，上辊架（3）位于支架（8）的上端，两个支架（8）相对放置，高度可调平台（6）固定在两个支架（8）之间，下辊台（2）安装在高度可调节平台（6）上，下辊台（2）和高度可调节平台（6）之间连接有压力传感器（7）与外接的数字显示器相连接；所述的上辊架（3）有两个上辊，所述的下辊台（2）有两个下辊，所述的样品（5）放在下辊台（2）与上辊架（3）之间；通过高度可调节平台（6）调节下辊和上辊之间的距离，从而调节加载在样品（5）上的压力的大小； 

所述的旋钮（1）用以调节高度可调节平台（6）的升降高度。 

2.根据权利要求1所述的一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，所述的下辊台（2）、上辊架（3）、螺钉（4）、高度可调平台（6）、支架（8）和底座（9）的材质全为钢。 

3.根据权利要求1所述的一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，所述的旋钮（1）上标有刻度，精度为0.02mm。 

4.根据权利要求1所述的一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，所述的压力传感器（7）精度为0.1%，供电电压为直流电压12V，工作温度为-20℃-60℃。 

5.根据权利要求1所述的一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，所述的压力传感器（7）位于高度可调平台（6）的中央。 

6.根据权利要求1所述的一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，螺钉（4）将上辊架（3）固定在支架（8）上，螺钉（4）将支架（8）固定在底座（9）。 

7.根据权利要求1所述的一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，所述的上辊架（3）的两个上辊之间的距离为22mm，下辊台（2）上两个下辊之间的距离8mm。 

8.根据权利要求1所述的一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，所述的下辊台（2）底部中心有一个凹槽，可以与压力传感器7紧密接触，保证所测压力的准确性与稳定性。 

9.根据权利要求1或2所述的一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，所述的样品（5）通过上辊架（3）和下辊台（2）的作用，样品（5）发生纯弯曲。