[发明专利]一种综合孔径微波辐射计阵列因子成型方法

权利要求书

1.一种综合孔径微波辐射计阵列因子成型方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1：根据天线单元的位置坐标计算与天线单元对应的空间频率域中的采样点的位置(u_k,v_k)；

步骤S2：在每个采样点(u_k,v_k)上乘以一个对应于该采样点的系数c_k，得到经过修正的阵列因子AF_m(ξ,η)，并选择期望的阵列因子AF_ideal(ξ,η)，计算经过修正的阵列因子与期望阵列因子的误差函数e(ξ,η)＝a·[AF_m(ξ,η)-AF_ideal(ξ,η)]_主波束+b·[AF_m(ξ,η)-AF_ideal(ξ,η)]_旁瓣，其中系数a和b用来调节主波束和旁瓣区间内的误差的权重比例，是取值于区间(0,1]内的实数，在权重相同的情况下a＝b＝1；

步骤S3：计算使得误差函数e(ξ,η)范数最小或者均方误差最小条件下的系数C＝[c₀,c₁,…,c_N-1]^T；

步骤S4：将步骤S3中计算得到的系数c_k乘到相应的采样点(u_k,v_k)上，得到修正后的阵列因子AF′(ξ,η)。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S1具体包括：

根据公式u_k＝(x_i-x_j)/λ和v_k＝(y_i-y_j)/λ计算综合孔径辐射计在空间频率域中第k个采样点的位置(u_k,v_k)；

其中（x_i，y_i）表示第i个天线单元在平面上的位置坐标，（x_j，y_j）表示第j个天线单元在平面上的位置坐标，λ为辐射计接收信号的波长，其中k=0,1,2,....N-1，为M个天线单元所对应的采样点个数，i＝1,2,....M，j＝1,2,....M，i≠j。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述步骤S2中经过修正的阵列因子为：

AFm(ξ,η)=Σk=0N-1W(uk,vk)ckej2π(ukξ+vkη);]]>

其中，W(u,v)为窗函数，窗函数的带宽不小于在空间频率域中的最大采样频率；为方向余弦，θ表示俯仰角，φ表示方位角，N为采样点数目。