[发明专利]一种铜铁锡硒薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201410141014.5 申请日: 2014-04-09
公开(公告)号: CN103938169A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 孟宪宽;杨平雄;褚君浩 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/58;H01L31/032
代理公司: 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 代理人: 董红曼
地址: 200062 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜铁锡硒 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种铜铁锡硒薄膜Cu2FeSnSe4的制备方法,其特征在于,使用磁控溅射方法在玻璃衬底上自下而上依次沉积锡、铁、铜金属层,得到层状金属薄膜前驱体;然后,将所述层状金属薄膜前驱体置于石墨盒中并加入硒粉,一同放置于管式快速退火炉中进行后硒化处理,得到所述铜铁锡硒薄膜Cu2FeSnSe4;其中,所述铜铁锡硒薄膜Cu2FeSnSe4中的各金属元素含量是通过调节金属层的溅射沉积时间来调控。

2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述玻璃衬底的预处理为,用洗洁精清洗玻璃衬底表面,然后再依次使用丙酮、乙醇和去离子水进行超声清洗,清洗后置于去离子水中保存。

3.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述铜铁锡硒薄膜Cu2FeSnSe4中的各金属元素的摩尔比为Cu:Fe:Sn:Se=27.12:11.89:11.27:49.73。

4.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述铜铁锡硒薄膜Cu2FeSnSe4中的各金属元素的化学计量比为Cu:Fe:Sn:Se=2:1:1:4。

5.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述退火温度为450℃~500℃,所述后硒化处理的温度为500℃。

6.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在后硒化升温至500℃的过程中,在250℃时保温1min,在500℃时保温20min。

7.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述后硒化处理的整个升温时间为360s。

8.一种按权利要求1-7之任一项所述的制备方法得到的铜铁锡硒薄膜Cu2FeSnSe4,其特征在于,所述铜铁锡硒薄膜Cu2FeSnSe4为致密、无孔洞、表面较平滑的结构。

9.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述铜铁锡硒薄膜Cu2FeSnSe4用作薄膜太阳能电池吸收层。

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