[发明专利]一种曝光用掩模板、曝光设备及显示用基板的制作方法有效
| 申请号： | 201410141112.9 | 申请日： | 2014-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN103941551A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 何璇;郭炜 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 模板 设备 显示 用基板 制作方法 | ||
1.一种曝光用掩模板，其特征在于，包括：掩模板本体，位于所述掩模板本体出光侧用于防衍射的膜层；
所述掩模板本体上设置透光区域和不透光区域；
所述防衍射的膜层上至少与所述掩模板本体的透光区域对应的区域为透光区域；
所述防衍射的膜层为折射率n>1的膜层。
2.根据权利要求1所述的曝光用掩模板，其特征在于，所述防衍射的膜层透光区域的折射率n满足：1<n≤10。
3.根据权利要求2所述的曝光用掩模板，其特征在于，所述防衍射的膜层透光区域的折射率n满足：1<n≤2。
4.根据权利要求1所述的曝光用掩模板，其特征在于，所述掩模板本体与所述防衍射的膜层之间可拆装连接。
5.根据权利要求1所述的曝光用掩模板，其特征在于，所述防衍射的膜层的厚度为1～300μm。
6.根据权利要求1所述的曝光用掩模板，其特征在于，所述防衍射的膜层为有机树脂层。
7.根据权利要求1所述的曝光用掩模板，其特征在于，所述防衍射的膜层与所述掩模板本体之间的距离为50～200μm。
8.一种显示用基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
在衬底基板上形成一层光阻层；
将与所述光阻层上待形成的图形对应的曝光用掩模板置于所述光阻层的上方；
采用曝光设备对所述光阻层进行曝光，曝光设备发出的光线先后经过所述曝光用掩模板的入光侧、出光侧和所述光阻层，曝光后的光阻层经显影工艺形成所述图形；
其中，所述曝光用掩模板为权利要求1-7任一所述的曝光用掩模板。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成一层光阻层，具体为：在衬底基板上形成一层黑色树脂层或彩色树脂层。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述光阻层上方放置曝光用掩模板以及曝光形成预设图形，具体为：
在形成有黑色树脂层的衬底基板上方放置与待形成的黑矩阵图形相对应的曝光用掩模板，曝光用掩模板的掩模板本体上与待形成的黑矩阵图形对应的区域为透光区域，其余区域为遮光区域；
采用曝光设备对所述黑色树脂层进行曝光，对曝光后的黑色树脂层进行显影工艺，形成所述黑矩阵图形；或者
在形成有彩色树脂层的衬底基板上方放置与待形成的彩色滤光片图形相对应的曝光用掩模板，曝光用掩模板的掩模板本体上与待形成的彩色滤光片图形对应的区域为透光区域，其余区域为遮光区域；
采用曝光设备对所述彩色树脂层进行曝光，对曝光后的彩色树脂层进行显影工艺，形成所述彩色滤光片图形。
11.一种曝光设备，其上设置有曝光用掩模板，其特征在于，所述曝光用掩模板为权利要求1-7任一所述的曝光用掩模板。
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