[发明专利]沙漏型孔道核孔滤膜及其制备方法

权利要求书

1.一种沙漏型孔道核孔滤膜，其特征在于包括在聚合薄膜上有重离子辐照蚀刻形成的核孔，核孔孔道剖面为盅底内孔相连通的两个盅形，呈沙漏型；外孔孔径范围2-10μm，内孔孔径范围0.2-3μm。

2.如权利要求1所述的沙漏型孔道核孔滤膜，其特征在于所述的聚合薄膜为PET或PC聚酯薄膜，厚度为10-30μm。

3.一种沙漏型孔道核孔滤膜的制备方法，其特征在于步骤包括有：

（1）采用高能加速器提供的重离子对PET或PC薄膜进行辐照，离子能量5-50MeV/u;薄膜厚度为10-30μm，辐照的注量为1×10⁵-5×10⁷/cm²；离子完全穿透薄膜，形成柱状的潜径迹；

（2）放入蚀刻液中进行第一次蚀刻，蚀刻液为5-9Mol/L的NaOH，其中溶剂采用甲醇和水的混合溶液，甲醇含量为10%-80%，蚀刻温度为15℃-25℃；蚀刻时间为5-40分钟；

（3）完成步骤（2）后，将薄膜清洗晾干；

（4）将晾干后的薄膜置入恒温箱中退火，加热温度为100-200℃，并保持0.5-2小时，然后自然冷却；

（5）再次放入步骤（2）所述的蚀刻液中进行蚀刻，蚀刻温度为15℃-25℃；蚀刻时间为5-40分钟；

（6）将蚀刻后的薄膜进行清洗晾干。

4.如权利要求3所述沙漏型孔道核孔滤膜的制备方法，其特征在于所述的高能加速器提供的离子为Kr、Ar、Xe、Bi离子。

5.如权利要求3所述的沙漏型孔道核孔滤膜的制备方法，其特征在于步骤（3）和步骤（5）所述的溶剂还包括水溶液或含量10%-80%的异丙醇、乙二醇、丙三醇分别与水的混合溶液。