[发明专利]金属镁电解槽用高纯氧化镁干式捣打料

权利要求书

1.一种金属镁电解槽用高纯氧化镁干式捣打料，其特征在于：采用高纯电熔镁砂和烧结海水镁砂为主要原料，添加外加剂；所用原料加入量分别为：粒度为3mm-1mm 的电熔镁砂30%-40%、粒度为1mm-0mm的电熔镁砂30%-40%，粒度为≤0.088mm烧结海水镁砂15%-20%、粒度为≤0.0325mm烧结海水镁砂10%-15%，烧结海水镁砂和电熔镁砂总质量合量为100%，外加剂的加入量为烧结海水镁砂和电熔镁砂总质量的百分比，低温结合剂外加量为烧结海水镁砂和电熔镁砂总质量的1%-2%，高温烧结剂外加量为烧结海水镁砂和电熔镁砂总质量的0.3%-0.8%，高温防渗剂外加量为烧结海水镁砂和电熔镁砂总质量的2.5%--3.5%。

2.根据权利要求1所述的一种金属镁电解槽用高纯氧化镁干式捣打料，其特征在于：所述低温结合剂为硫酸镁和高纯轻烧镁粉复合低温结合剂。

3.根据权利要求1所述的一种金属镁电解槽用高纯氧化镁干式捣打料，其特征在于：所述高温烧结剂为钝化的金属镁粉末。

4.根据权利要求1所述的一种金属镁电解槽用高纯氧化镁干式捣打料，其特征在于：所述高温防渗剂为氧化镁细粉。

5.根据权利要求1所述的一种金属镁电解槽用高纯氧化镁干式捣打料，其特征在于：所述高纯氧化镁干式捣打料用于电解镁电解槽上。