[发明专利]一种减少界面层厚度的铜/铝复合带制备方法无效
申请号: | 201410145098.X | 申请日: | 2014-04-11 |
公开(公告)号: | CN103934266A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 王平;龚潇雨;王泽宇;苗龙;李保绵 | 申请(专利权)人: | 东北大学 |
主分类号: | B21B1/30 | 分类号: | B21B1/30;B21B3/00 |
代理公司: | 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 | 代理人: | 梁焱 |
地址: | 110819 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 减少 界面 厚度 复合 制备 方法 | ||
1.一种减少界面层厚度的铜/铝复合带制备方法,其特征在于按以下步骤进行:
(1)采用软状态的T2紫铜带为铜原料;采用硅质量百分含量3.25~8.89%的软状态的铝硅合金带为硅铝合金原料;铜原料与硅铝合金原料的厚度比为1:1;
(2)将铜原料与硅铝合金原料分别进行表面处理;
(3)将完成表面处理的铜原料与硅铝合金原料进行轧制复合,轧制复合的压下率控制在65~75%,制成轧制复合带;
(4)将轧制复合带在惰性气体保护条件下,以8~15℃/s的升温速度升到200~400℃,保温0.5~2h,然后随炉冷却至室温,完成扩散退火;
(5)将完成扩散退火的轧制复合带进行精轧,精轧总压下率为33.3~80%,获得厚度在0.1~2mm的精轧复合带;
(6)将精轧复合带进行连续退火,连续退火温度为500±10℃,时间为5~10min,连续退火结束后空冷至室温,制成复合界面层平均厚度在0.5~1.6μm的铜/铝复合带。
2.根据权利要求1所述的一种减少界面层厚度的铜/铝复合带制备方法,其特征在于所述的轧制复合带的厚度在0.5~3mm。
3.根据权利要求1所述的一种减少界面层厚度的铜/铝复合带制备方法,其特征在于随炉冷却时的平均降温速度在10~30℃/ min。
4.根据权利要求1所述的一种减少界面层厚度的铜/铝复合带制备方法,其特征在于所述的铜/铝复合带的剪切强度在94~118MPa,屈服强度在82~90MPa,抗拉强度在95~105 MPa,伸长率在5.5~7.5%。
5.根据权利要求1所述的一种减少界面层厚度的铜/铝复合带制备方法,其特征在于所述的表面处理是采用NaOH溶液清理表面去除杂质,然后用钢刷打磨去除表面氧化皮,再用丙酮去除表面油污,风干后完成表面处理。
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