[发明专利]反射镜单元和曝光装置有效
申请号: | 201410145450.X | 申请日: | 2014-04-11 |
公开(公告)号: | CN104111527B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 崔长植 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B26/06 | 分类号: | G02B26/06;G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 柳爱国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 单元 曝光 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种可变形的反射镜单元,所述反射镜单元能够校正曝光装置、天文望远镜等装置中的光学系统的波前误差和畸变,还涉及一种曝光装置。
背景技术
近来,由于对曝光装置的分辨率要求越来越严格,因此对校正由曝光引起的像差的要求也越来越严格。为了校正由曝光引起的像差,已经提出了一种使用可变形反射镜的配置。
日本专利特许公报JP4361269公开了一种反射镜支撑结构,其中用外环支撑反作用组件,并且用内环支撑反射镜,用于使反射镜变形的气动致动器被附连至反作用组件。日本专利公开特许公报JP2004-64076公开了一种伺服控制机构,所述伺服控制机构包括在至少三个刚性位置支撑可变形反射镜的多个致动器以及位于这些致动器附近的位移传感器。
在日本专利特许公报JP4361269中,气动致动器通过连杆机械地耦合至反射镜的背面,因此相对于反射镜被过度约束。反射镜的形状容易受到装配误差的影响。在日本专利特许公报JP4361269公开的反射镜支撑结构中,气动致动器的反作用力通过反作用组件、内环和外环传递至反射镜,并且可能会影响反射镜的形状。
日本专利公开特许公报JP2004-64076提出了一种装有位移反馈驱动控制系统的反射镜单元,其包括多个致动器以及位于这些致动器附近的多个位移传感器。装有位移反馈驱动控制系统的反射镜单元在每一个驱动点处或者在每一个驱动点附近测量反射镜的位移,并控制致动器以使位移在指定的精度范围内与目标位移值相符。因此,反射镜单元不受驱动反作用力的影响。但是,该反射镜单元配置复杂,需要很多位移传感器,并且价格昂贵。
发明内容
本发明提供了一种反射镜单元,所述反射镜单元能够减少来自致动器的驱动反作用力对反射镜形状的影响。
本发明在第一方面提供了一种反射镜单元,包括:反射镜;多个非接触型致动器,所述非接触型致动器包括可移动元件和定子并且被构造成用于改变所述反射镜的形状;支撑板,所述定子被固定至所述支撑板;以及被构造成用于保持所述反射镜和所述支撑板的构件,其中所述可移动元件被附连至反射镜的与光学表面相反的表面,并且所述构件经由运动学支架保持所述支撑板。
本发明在第二方面提供了一种曝光装置,用于经由投影光学系统将被来自照明光学系统的光照亮的光罩的图案图像投影到基板上,由此曝光所述基板,其中所述照明光学系统和投影光学系统中的至少一者包括在第一方面中定义的反射镜单元。
根据以下参照附图对示范性实施例的说明,本发明的更多特征将变得显而易见。
附图说明
图1A和图1B是示出了根据第一实施例的配置的视图;
图2是示出了双脚支架的示意图;
图3是示出了根据第二实施例的配置的视图;
图4是示出了第二实施例的一种变型的视图;
图5是示出了图4中的反射镜被保持住的状态的视图;
图6是示出了根据第三实施例的配置的视图;
图7是示出了第三实施例的一种变型的视图;
图8是示出了根据第四实施例的配置的视图;
图9是示出了使用滚珠和V形槽的支架的示意图;
图10是示出了竖直的反射镜单元中的支架的示例的视图;以及
图11是示出了曝光装置的配置的视图。
具体实施方式
现在将参照附图介绍本发明的实施例。本发明所述的非接触型致动器是一种其中可移动元件和定子在致动器中并未彼此机械地耦合的致动器类型。所述非接触型致动器例如是一种线性马达,其中可移动元件和定子通过电磁力或电磁体耦合。尽管下述的实施例将示范线性马达,但是非接触型致动器并不仅限于线性马达。
【第一实施例】
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