[发明专利]复合型孔道核孔滤膜及其制备方法

权利要求书

1.一种复合型孔道结构核孔滤膜，其特征在于包括在聚合薄膜上有重离子辐照蚀刻形成的核孔，核孔孔道由圆锥和圆柱孔道组合而成；孔道最大孔径在2-10μm，最小孔径在0.2-3μm。

2.如权利要求1所述的复合型孔道结构核孔滤膜，其特征在于所述的聚合薄膜为PET或PC聚酯薄膜，厚度为10-30μm。

3.一种复合型孔道结构的核孔滤膜的制备方法，其特征在于步骤包括有：

（1）采用高能加速器提供的重离子对PET或PC薄膜进行辐照，离子能量5-50MeV/u;薄膜厚度为10-30μm，辐照的注量为1×10⁶-5×10⁷/cm²；离子完全穿透薄膜，形成柱状的潜径迹；

（2）放入5-8Mol/L NaOH的溶液进行第一次蚀刻，蚀刻方式为单面蚀刻或双面蚀刻，蚀刻温度为15-80℃，蚀刻时间为3-150分钟；通过该步骤蚀刻加工成复合型孔道结构的圆柱孔道部分；

（3）完成步骤（2）蚀刻，经过清洗后，进行第二次蚀刻，蚀刻方式为单面蚀刻或双面蚀刻，蚀刻液为5-9Mol/L的NaOH，其中溶剂采用甲醇和水的混合溶液，甲醇含量10%-80%，蚀刻温度为15℃-25℃；蚀刻时间为5-30分钟；通过该步骤蚀刻加工复合型孔道结构的圆锥孔道部分。

4.如权利要求3所述的复合型孔道结构核孔滤膜的制备方法，其特征在于所述的高能加速器提供的离子为Kr、Ar、Xe、Bi离子。

5.如权利要求3所述的复合型孔道核孔滤膜的制备方法，其特征在于所述的步骤（3）的溶剂还包括有异丙醇、乙二醇、丙三醇分别与水的混合溶液。

6.如权利要求3所述的复合型孔道核孔滤膜的制备方法，其特征在于所述的步骤（2）和所述的步骤（3）的顺序颠倒。