[发明专利]杀微生物剂

说明书

本申请是分案申请，其原申请的申请号为201080014769.9，申请日为2010年3月29日，发明名称为“杀微生物剂”。

技术领域

本发明涉及以5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮作为有效成分的杀微生物剂，更详细地说，涉及在该有效成分的制造工序中所使用的有机溶剂的残留物及其水解物的含量得以降低的杀微生物剂。

背景技术

5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮具有抑制微生物增殖的生物活性，因此被用作各种工业用制品的防腐剂或杀菌剂。另外，也可以作为用于防止由衍生自水处理装置或冷却水系统中产生的细菌等微生物或藻类的有机物等构成的粘菌的杀粘菌剂(slime control agent)的有效成分来使用。

特别是在水处理装置或冷却水系统中，根据水处理的目的或冷却水系的装置形态(封闭系统或开放系统等)等，对于水处理工序，除了抑制粘菌之外，还要求不同的性能。例如，在用于排放水的高度净化或各种排水的再利用的水处理中，由于被处理水中所含有的污染性物质的影响，分离膜的网眼堵塞被视为很大的问题，因此要求降低作为其原因的多价金属离子(例如，参照专利文献1。)，或是，作为分离膜的流量下降的要因，被处理水中的蛋白质等的存在被视为问题，因此要求将其凝聚除去(例如，参照专利文献2)。另外，在为了工厂排水的再利用而对生物处理水进行膜分离处理的水处理中，氯所致膜劣化或氯所致微生物灭活导致总有机碳(TOC)增加，这被视为问题，要求对其进行处理(例如，参照专利文献3。)。另外，在半导体装置制造中所使用的清洗用超纯水的制造中，需要在2个以上的膜装置的每个中添加杀粘菌剂，难以进行控制，针对该问题，要求简便地进行(例如，参照专利文献4。)。进一步地，在反渗透膜(RO膜)处理方法中，对于将浓缩水作为排水被排出到系统外的问题，要求对水进行高度地回收(例如，参照专利文献5)。而且进一步提出了，在使用了RO膜分离装置的纯水制造装置中，为了进一步降低RO膜透过水的浓度，设置离子交换装置(例如，参照专利文献6)。由此可知，在包括粘菌控制的水处理工序中所要求的性能或被视为问题的课题是各种各样的。

近年来，作为新的课题，要求进一步降低高度处理水中的TOC。无论是在RO膜的处理系统中，还是在要求高度水质的纯水制造中，根据用途，数ppb～数十ppb程度的TOC被视为问题，特别是在用于半导体等电子材料制造的需要极高纯度纯水的用途中，近年来正在成为深刻的问题。另外，在冷却水系统中的军团菌属细菌的杀菌处理和粘菌控制中，会存在低分子的有机化合物在水系中分解反而被供给为粘菌的营养源的问题。特别是对于封闭系统中的粘菌控制来说，由于与开放循环冷却水系统相比排水量少，从而使滞留时间变长，因此有时难以发挥粘菌控制效果。由于在这种体系中所混入的低分子有机化合物成分会很快地进入到微生物中，因此需要尽可能使低分子有机化合物不混入到体系内。

为了对其进行处理，例如，可以对提高膜分离装置的性能的情况进行研究，但从技术层面来看，很难充分降低TOC。另外，为了降低处理水的TOC，也可以对追加后处理工序的情况进行研究，但这样不仅使处理作业繁杂，而且会使处理成本上升。因此，需要一个可以简便地适用于以往的处理工序的对策。

另外，对于5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮来说，以往是通过包括硫醚酰胺中间体的卤化环化工序和由该工序得到的具有3-异噻唑酮环的化合物的卤化氢盐的中和工序的制造工序(例如，参照专利文献7、8。)来制造、市售的。在该制造方法中，乙酸酯由于其反应转化率高，因此在工业上将其作为硫醚酰胺中间体的卤化环化反应溶剂来使用。另外，在化合物的清洗·提取工序中，也使用有机溶剂。这些有机溶剂在制造工序的最终工序中被除去，但很难完全地除去，有可能作为杂质残留在最终制品中。但是，这种残留物是微量的，例如，在水处理用途中，对于粘菌控制中所使用的5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮浓度来说，在被处理水中通常为数mg/L左右，因此被处理水中的残留物的浓度也低，以往并不特别被视为问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-95425号公报

专利文献2：日本特开2004-267830号公报

专利文献3：日本特开平11-33371号公报

专利文献4：日本特开平09-294989号公报

专利文献5：日本特开平10-202066号公报

专利文献6：日本特开2000-317457号公报

专利文献7：日本特开昭59-31772号公报