[发明专利]制备直径为400mm以上的单晶硅的方法有效
申请号: | 201410148453.9 | 申请日: | 2014-04-15 |
公开(公告)号: | CN103911654A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 高忙忙;李进;张洪岩;梁森;李海波;李国龙;薛子文;何力军 | 申请(专利权)人: | 宁夏大学 |
主分类号: | C30B15/22 | 分类号: | C30B15/22;C30B29/06 |
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地址: | 750021 宁夏回族*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 直径 400 mm 以上 单晶硅 方法 | ||
1.一种制备直径为400mm以上的单晶硅的方法,该方法采用通过直拉法制造单晶硅,该制备直径为400mm以上的单晶硅的方法包括如下步骤:
装料和熔化:将高纯多晶硅料粉碎,并在硝酸和氢氟酸的混合溶液中清洗外表面,除去可能的金属杂质;将粉碎后的高纯多晶硅料放入高纯的石英坩埚内,石英坩埚尺寸为≥800mm;将石英坩埚放入单晶炉中的石墨坩埚中;将单晶炉抽真空,再充入氩气,最后加热升温以熔化多晶硅料;
引晶:将单晶籽晶固定在籽晶轴上,并和籽晶轴一起旋转;将籽晶缓缓下降后与将籽晶轻轻浸入熔硅,使头部首先少量溶解,然后和熔硅形成一个固液界面;将籽晶逐步上升,与籽晶相连并离开固液界面的硅温度降低,形成单晶硅;
缩颈:快速向上提拉籽晶,以形成晶体;
放肩:将晶体控制到所需的目标直径;
等径生长:石英坩埚和晶体相互反方向旋转,根据熔体和单晶炉的状况,控制晶体等径生产所需长度,其中在等径初期,进口氩气流速为0.9m/s~1.5m/s,炉压22Torr,液口距为20mm;
收尾:晶体直径逐渐缩小,离开熔体;
降温:降低温度,逐渐冷却温度。
2.根据权利要求1所述的制备直径为400mm以上的单晶硅的方法,其特征在于:所述等径初期为等径开始至晶体直径达到300mm的阶段。
3.根据权利要求2所述的制备直径为400mm以上的单晶硅的方法,其特征在于:其中在等径初期,晶体的旋转速度为8~9rpm,石英坩埚的旋转速度为5~6rpm。
4.根据权利要求2或3所述的制备直径为400mm以上的单晶硅的方法,其特征在于:其中在等径初期,等径拉速为0.75~1mm/min。
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