[发明专利]一种低温AF镀膜用蒸发装置

权利要求书

1.一种低温AF镀膜用蒸发装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具和蒸发源(7)，其特征在于：所述镀膜伞具设有倾斜于水平面的侧板(2)，侧板(2)倾斜角为70°～80°，所述侧板(2)用于放置待镀膜镜片(6)；所述蒸发源(7)设置在镀膜伞具内，蒸发源(7)包括两条直立支架(71)，所述直立支架(71)形成的平面与水平面夹角等于侧板(2)倾斜角，用于放置蒸镀药品的蒸发舟(73)设置在直立支架(71)上，所述蒸发舟(73)距离侧板(2)25cm～35cm。

2.根据权利要求1所述的低温AF镀膜用蒸发装置，其特征在于：所述直立支架(71)设有水平方向的蒸发电极(72)，左右直立支架(71)上相对应的蒸发电极(72)组成电极组，所述蒸发舟(73)放置在电极组上。

3.根据权利要求2所述的低温AF镀膜用蒸发装置，其特征在于：所述直立支架(71)为L型，所述蒸发电极(72)设置在直立支架(71)的长腿段(71a)。

4.根据权利要求2所述的低温AF镀膜用蒸发装置，其特征在于：所述蒸发电极(72)设置在直立支架(71)的顶端、高度二分之一处和底端。

5.根据权利要求2所述的低温AF镀膜用蒸发装置，其特征在于：所述蒸发电极(72)设置在直立支架(71)的顶端、高度三分之一处、高度三分之二处和底端。

6.根据权利要求1或2所述的低温AF镀膜用蒸发装置，其特征在于：所述直立支架(71)高度为1m，采用2cm×2cm方形无氧铜材料。