[发明专利]沉积设备

权利要求书

1.一种沉积设备，所述沉积设备被构造为将沉积材料沉积在膜上，所述沉积设备包括：

沉积室；

沉积源，在沉积室中；

膜固定部，被构造为固定膜，膜包括沉积材料沉积到的沉积表面；以及

保护板，在沉积室中，被构造为防止沉积材料沉积到沉积室中的侧壁和上壁，

其中，尺寸与沉积表面上的有效膜形成区域对应的第一开口以及形成在有效膜形成区域的外部区域中的至少一个第二开口形成在保护板上，

其中，通过所述至少一个第二开口的沉积材料被构造为在沉积表面上形成对准标记。

2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述至少一个第二开口包括多个第二开口，所述多个第二开口邻近第一开口的周边设置。

3.根据权利要求2所述的沉积设备，其中，第一开口以四边形的形状形成，所述多个第二开口邻近第一开口的角部设置。

4.根据权利要求3所述的沉积设备，其中，第二开口中的每个以十字的形状形成。

5.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，膜固定部包括：

框架，支撑膜；以及

支撑体，将框架固定到沉积室。

6.根据权利要求5所述的沉积设备，其中，尺寸比沉积表面的有效膜形成区域宽的第三开口形成在框架中，并且当从沉积源观察时，第一开口和所述多个第二开口设置在第三开口中。

7.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，沉积源设置在沉积室的底表面上。

8.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，膜固定部被设置在沉积室的上侧，其中，保护板包括：

第一保护板，设置在膜固定部的下侧；以及

第二保护板，被构造为保护沉积室中的侧表面。

9.根据权利要求8所述的沉积设备，其中，第一开口设置在沉积室的中心。

10.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，沉积材料为有机材料。