[发明专利]镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法

权利要求书

1.一种镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、以去离子水为溶剂配制电解液，调节电解液的pH为8～12，然后将电解液超声处理2h～5h；每升电解液中包括含锆化合物10g～20g，焦磷酸钠10g～15g，磷酸三钠8g～15g，柠檬酸铵2g～5g，纳米二氧化锆粉体5g～10g，硝酸铈铵2g～5g；

步骤二、将待处理的镁合金血管支架置于步骤一中超声处理后的电解液中作为阳极，将不锈钢板作为阴极，将表面包覆有绝缘塑料膜的不锈钢丝作为辅助阴极，控制电解液的温度为20℃～50℃，调节微弧氧化电源的脉冲频率为300Hz～1000Hz，占空比为10%～40%，电压为300V～400V，对镁合金血管支架恒压微弧氧化处理5min～10min，在镁合金血管支架表面原位生长一层均匀的复合陶瓷膜；所述镁合金血管支架与不锈钢板之间的距离为9cm～12cm，所述微弧氧化电源为直流脉冲电源。

2.按照权利要求1所述的镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，步骤一中所述含锆化合物为氟锆酸铵、氢氧化锆、碳酸锆、碳酸锆铵、醋酸锆或锆硅酸钠。

3.按照权利要求1所述的镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，步骤二中所述脉冲频率为500Hz～800Hz。

4.按照权利要求3所述的镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，所述脉冲频率为650Hz。

5.按照权利要求1所述的镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，步骤二中所述占空比为20%～30%。

6.按照权利要求5所述的镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，所述占空比为25%。

7.按照权利要求1所述的镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，步骤二中所述电压为350V。

8.按照权利要求1所述的镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，步骤二中所述微弧氧化处理的时间为8min。

9.按照权利要求1所述的镁合金血管支架表面微弧氧化制备复合陶瓷膜的方法，其特征在于，步骤二中所述镁合金血管支架与不锈钢板之间的距离为10cm。