[发明专利]超微孔高比表面积低铝氧化锆材料及其制备方法

权利要求书

1.一种超微孔高比表面积含低铝氧化锆材料，其特征在于是一种铝锆原子比低于10%的氧化锆材料，该材料具有微孔结构和高的比表面积，其微孔孔径为1.0-2.0nm，比表面积超过200m²/g。

2.权利要求1所述的一种超微孔高比表面积氧化铝材料的制备方法，其特征在于利用廉价非离子表面活性剂，在水热合成自组装过程中，同时加入锆源和铝源，通过调节溶剂挥发诱导自组装的温度和时间，从而控制锆铝源的水解-聚合进程，使得材料在有机- 无机界面层上存在相对更多的未发生完全聚合的锆羟基（Zr-OH）和铝羟基(Al-OH)，并与非离子表面活性剂胶束之间通过氢键相互作用，形成超微孔高比表面的含低铝氧化锆材料，其具体工艺为：

按照(2-50) 铝源∶（0.4-36）锆源:(5-50)乙醇∶ (1-10) 去离子水∶(1-5)表面活性剂的摩尔配料比，将表面活性剂溶解在含有4.5-5.5%去离子水的乙醇溶液中，并在搅拌下同时加入锆源和铝源，保持体系温度为20-60℃，连续搅拌6-24 小时，随后将反应混合物倒入培养皿中于30-80℃温度下挥发乙醇和水，时间为48-72小时，最后于400-800℃下焙烧5-10小时，制得超微孔级的含低铝ZrO₂材料。

3.按照权利要求2所述的一种超微孔级含低铝氧化锆材料的制备方法，其特征在于所述的表面活性剂为阳离子型双十二烷基二甲基氯化铵，其分子式为C₂₆H₅₆N·Cl。

4.按照权利要求2所述的一种超微孔高比表面积含低铝氧化锆材料的制备方法，其特征在于所述的铝源为硝酸铝、异丙醇铝、仲丁醇铝、偏铝酸钠、氯化铝或硫酸铝。

5.按照权利要求2所述的一种超微孔级含低铝氧化锆材料的制备方法，其特征在于所述的锆源为硫酸锆、氧氯化锆、硝酸氧锆、丙醇锆或硝酸锆。