[发明专利]一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法

权利要求书

1.一种全息凹面闪耀光栅的母板制备方法，其特征在于，包括下列步骤：

（1）布置全息记录光路，在凹面镜基底上涂布光刻胶，经曝光，显影，形成全息凹面光栅掩模；

（2）在所述全息凹面光栅掩模上沉积金属层，金属层厚度大于光栅栅齿的高度；

（3）在所述金属层上涂布粘合剂，将其与凸模粘合固化，所述凸模与所述金属层形状配合； 

（4）将与凸模连接的金属层和所述全息凹面光栅掩模分离，清洗，获得凸面金属光栅掩模；

（5）测量所述凸面金属光栅掩模的栅齿结构，与所需要凸面金属光栅掩模的栅齿占空比进行比较，若得到的栅齿占空比小于所需要的占空比，则通过电铸或镀膜的方式沉积金属层，增大栅齿的占空比；若得到的栅齿占空比大于所需要的占空比，则通过化学腐蚀或离子刻蚀，减小栅齿的占空比；

（6）将所述凸面金属光栅掩模围绕凸面曲率中心转动，采用离子束刻蚀系统的离子束倾斜扫描刻蚀所述凸面金属光栅掩模，使所述凸面金属光栅掩模转变成三角形闪耀结构，得到全息凹面闪耀光栅的母板。

2.根据权利要求1所述的一种全息凹面闪耀光栅的母板制备方法，其特征在于：步骤（2）中所述全息凹面光栅掩模是光刻胶材料掩模，或是经由光刻胶掩模刻蚀转移到玻璃或其他材料上制成的掩模；沉积金属层通过电铸或镀膜方式实现。

3.根据权利要求1所述的一种全息凹面闪耀光栅的母板制备方法，其特征在于：所述步骤（5）中采用原子力显微镜、电子显微镜或三维轮廓仪测量栅齿形貌，获得占空比信息，为调节栅齿占空比提供依据。

4.根据权利要求1所述的一种全息凹面闪耀光栅的母板制备方法，其特征在于：所述步骤（6）中，倾斜入射到所述凸面金属光栅掩模表面的离子束为细长条形，凸面金属光栅掩模围绕凸面曲率中心转动，离子束在凸面金属光栅掩模表面来回扫描。

5.根据权利要求1所述的制备方法得到全息凹面闪耀光栅的母板。