[发明专利]沉积装置和使用该沉积装置制造显示装置的方法无效
申请号: | 201410155011.7 | 申请日: | 2014-04-17 |
公开(公告)号: | CN104342620A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
发明(设计)人: | 金佑铉 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/54;H01L51/56 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 刘钊;周艳玲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 装置 使用 制造 显示装置 方法 | ||
1.一种沉积装置,包括:
第一基底安装构件;
与所述第一基底安装构件重叠的第二基底安装构件;和
设置在位于所述第一基底安装构件和所述第二基底安装构件之间的空间中的溅射单元,所述溅射单元具有第一开口和第二开口,所述第一开口被设置为比所述第二开口更靠近所述第一基底安装构件,所述第二开口被设置为比所述第一开口更靠近所述第二基底安装构件。
2.根据权利要求1所述的沉积装置,进一步包括:
包含所述溅射单元的腔室;和
驱动单元,被配置为相对于所述腔室和所述溅射单元中的至少一个移动所述第一基底安装构件和所述第二基底安装构件中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的沉积装置,
其中所述第一基底安装构件具有位于所述第一基底安装构件的两个部分之间的开口,并且
其中所述开口的宽度等于或大于所述溅射单元在与所述开口的宽度的方向平行的方向上的长度。
4.根据权利要求3所述的沉积装置,其中所述第一基底安装构件的所述两个部分在与所述开口的宽度的方向垂直的方向上不与所述溅射单元重叠。
5.根据权利要求1所述的沉积装置,其中所述第一基底安装构件和所述第二基底安装构件被配置为相对于所述溅射单元在同一方向上同时移动。
6.根据权利要求1所述的沉积装置,
其中所述第一开口位于所述溅射单元的第一侧,
其中所述第二开口位于所述溅射单元的平行于所述溅射单元的所述第一侧的第二侧,并且
其中所述第一开口在垂直于所述溅射单元的所述第一侧的方向上与所述第二开口重叠。
7.根据权利要求6所述的沉积装置,所述溅射单元进一步包括:设置在所述溅射单元的所述第一侧和所述溅射单元的所述第二侧之间的第一靶支撑构件和第二靶支撑构件,其中所述第一靶支撑构件在平行于所述溅射单元的所述第一侧的方向上与所述第二靶支撑构件重叠。
8.根据权利要求1所述的沉积装置,进一步包括:被配置为控制所述溅射单元在平行于所述第一基底安装构件的方向上的高度的控制单元。
9.根据权利要求1所述的沉积装置,进一步包括:
被配置为将第一基底紧固在所述第一基底安装构件上的第一压板;和
被设置为平行于所述第一压板并被配置为将第二基底紧固在所述第二基底安装构件上的第二压板。
10.根据权利要求9所述的沉积装置,进一步包括:设置在所述溅射单元内并具有被配置为接触包括沉积材料的靶的支撑表面的靶支撑构件,其中所述第一压板具有被设置为垂直于所述支撑表面并被配置为接触所述第一基底的接触表面。
11.根据权利要求9所述的沉积装置,进一步包括:设置在所述溅射单元内并具有被配置为接触包括沉积材料的靶的支撑表面的靶支撑构件,其中所述第一压板包括被设置为垂直于所述支撑表面并被配置为传送用于冷却所述第一基底的制冷剂的流动通道。
12.根据权利要求9所述的沉积装置,进一步包括被连接到所述第一压板的流动通道并被连接到所述第一基底安装构件的连接单元的管道,所述第一压板的所述流动通道被配置为容纳通过所述第一基底安装构件的所述连接单元提供的制冷剂并被配置为传送用于冷却所述第一基底的所述制冷剂。
13.根据权利要求12所述的沉积装置,进一步包括被连接到所述第一基底安装构件的所述连接单元、被配置为将所述冷却剂传送到所述第一基底安装构件的所述连接单元、并被配置为当所述第一基底安装构件相对于所述溅射单元移动时变形的管。
14.一种制造显示装置的方法,该方法包括:
在第一显示单元和第二显示单元之间设置溅射单元,所述溅射单元具有第一开口和第二开口,所述第一显示单元被设置在第一基底上,所述第二显示单元被设置在第二基底上;和
同时通过所述第一开口将第一组材料提供在所述第一显示单元上并通过所述第二开口将第二组材料提供在所述第二显示单元上。
15.根据权利要求14所述的方法,其中所述第一组材料和所述第二组材料中的至少一个包括低温粘度转变无机材料。
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