[发明专利]一种具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法，其特征在于，具体包括如下步骤：

1）将金属银靶和玻璃基片分别放入清洁装置中浸泡清洗，去除去除金属银靶和玻璃基片表面的油污；

2）将基片放入直流溅射沉积系统中，控制直流溅射沉积系统工作功率、预溅时间、薄膜沉积时间，将金属银均匀的沉积在玻璃基底表面，从而在玻璃表面形成一层均匀的金属银薄膜，将沉积好的银薄膜取出备用；

3）将金属银薄膜放入离子束刻蚀系统，设定系统电流、电压，以及离子束轰击金属银薄膜的表面角度、轰击时间后，进行轰击，形成表面具有纳米微腔结构的金属银薄膜。

2.根据权利要求1所述具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法，其特征在于，所述离子束刻蚀系统刻蚀电流为100～600mA，加速电压为100～800V，刻蚀角度0～80度，时长为1～20分钟。

3.根据权利要求1所述具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤１）清洁装置中浸泡清洗，可将金属银靶、基片分别放入丙酮、无水乙醇、去离子水中超声机中浸泡清洗1～20min进行去污。

4.根据权利要求３所述具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤２）直流溅射沉积系统工作功率为50W，预溅时长1-20min，薄膜沉积时长为１0min，将金属银均匀的沉积在基底表面。

5.根据权利要求４所述具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤３）将金属银薄膜放入离子束刻蚀系统，离子束轰击角度为50度，轰击电流为300mA，电压为400V，时间长度为10min，进行轰击，形成表面具有纳米微腔结构的金属银薄膜。