[发明专利]基于面聚类的自适应LOD模型构建方法有效
申请号: | 201410158036.2 | 申请日: | 2014-04-18 |
公开(公告)号: | CN103886635B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 詹勇;陈翰新;李锋;王阳生;王昌翰;孔维彬;胥洪峰 | 申请(专利权)人: | 重庆市勘测院 |
主分类号: | G06T15/04 | 分类号: | G06T15/04 |
代理公司: | 重庆市前沿专利事务所(普通合伙)50211 | 代理人: | 郭云 |
地址: | 400020 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 面聚类 自适应 lod 模型 构建 方法 | ||
1.一种基于面聚类的自适应LOD模型构建方法,其特征在于按以下步骤进行:
步骤一、生成形状LOD;生成并优化纹理LOD;
所述生成形状LOD按以下步骤执行:
A1、获取每个面的重要因子;
A2、确定重要因子的分割阈值并划分模型;
A3、生成简化模型,构建形状LOD;
步骤二、采用累加方式加载形状LOD,利用传统切换方式加载纹理LOD。
2.如权利要求1所述的基于面聚类的自适应LOD模型构建方法,其特征是:步骤一中所述获取每个面的重要因子按以下步骤进行:
为建筑模型的每一个面定义其对于整个建筑模型外观贡献程度的重要因子,设定所有面的重要因子的总和为1,设定简化模型的重要因子总和为E,0<E≤1;对于同样大小的重要因子总和E,获取使用个数最少的面的组合。
3.如权利要求1所述的基于面聚类的自适应LOD模型构建方法,其特征是:步骤一中所述确定重要因子的分割阈值并划分模型按以下步骤进行:
将所有的面按照重要因子的大小排列,通过设定两种以上重要因子的分割阈值,对建筑模型的面进行分割,得到面聚类结果,从而将模型划分成多个部分;再对这些划分的部分进行组合得到不同级别的形状LOD。
4.如权利要求1所述的基于面聚类的自适应LOD模型构建方法,其特征是:步骤一中所述生成简化模型,构建形状LOD按以下步骤进行:
在阈值内的所有面构成该级别的简化模型;通过不同的分割阈值,划分得到不同级别的简化模型,通过不同级别的简化模型组合构建出形状LOD。
5.如权利要求1所述的基于面聚类的自适应LOD模型构建方法,其特征是:步骤一中所述进行LOD模型纹理优化按以下步骤进行:
设定LOD模型纹理的精细纹理为T1,设定LOD模型纹理的简化纹理为T2;
对于精细纹理T1,优化精细模型图片尺寸:
设定用于贴图的纹理标准分辨率为R1(r1x,r1y),r1x和r1y分别为用于贴图的纹理标准在坐标轴x方向和y方向上的分辨率;设定精细模型图片分辨率为R2(r2x,r2y),r2x和r2y分别为精细模型图片在坐标轴x方向和y方向上的分辨率;设定精细模型图片的缩减倍数为N(nx,ny),nx和ny分别为精细纹理在坐标轴x方向和y方向的缩减倍数;计算得到精细模型图片的缩减倍数;将精细模型图片的长度和宽度缩减为原来的1/N(nx,ny);
使用3Dmax的渲染到纹理技术,将所有简化纹理T2合并成一张图,并利用重采样方法按实际需要降低简化纹理T2合并后的分辨率。
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