[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法、显示装置有效
申请号: | 201410158130.8 | 申请日: | 2014-04-18 |
公开(公告)号: | CN103995388A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 张思凯;黎敏;吴洪江 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括交叉排列的多个第一黑矩阵和多个第二黑矩阵、以及沿所述第二黑矩阵方向设置的彩膜;
其中,所述彩膜至少包括第一彩膜、第二彩膜、第三彩膜,所述第一彩膜、第二彩膜以及第三彩膜被所述第二黑矩阵隔开,且所述第一彩膜、所述第二彩膜、所述第三彩膜呈周期性排布;
所述彩膜与所述第一黑矩阵的重叠区域包括第一缺口和第二缺口,且所述第一缺口的开口方向与所述第二缺口的开口方向相反;
所述第一彩膜的第二缺口和与所述第一彩膜的第二缺口相对的所述第二彩膜的第一缺口之间的区域为第一区域,所述第二彩膜的第二缺口和与所述第二彩膜的第二缺口相对的所述第三彩膜的第一缺口之间的区域为第二区域,所述第一区域的面积与所述第二区域的面积不相等;
所述彩膜基板还包括平坦层、第一隔垫物和第二隔垫物,所述平坦层位于黑矩阵以及所述彩膜之上,所述第一区域对应的平坦层的厚度与所述第二区域对应的平坦层的厚度不相等;
所述第一隔垫物位于与所述第一区域对应的所述平坦层上,所述第二隔垫物位于与所述第二区域对应的所述平坦层上,所述第一隔垫物和所述第二隔垫物的形状和尺寸均相同。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵呈纵横排列,所述第一黑矩阵对应阵列基板的栅线,所述第二黑矩阵对应阵列基板的数据线。
3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一缺口的形状为三角形、半圆形、半椭圆形或半多边形中的任意一种;
所述第二缺口的形状为三角形、半圆形、半椭圆形或半多边形中的任意一种。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜的第一缺口的形状为第一等腰三角形,所述第一等腰三角形的底边与所述彩膜的第一边重合;所述彩膜的第二缺口的形状为第二等腰三角形,所述第二等腰三角形的底边与所述彩膜的第二边重合。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一隔垫物和所述第二隔垫物均为圆台体,所述第一隔垫物靠近所述平坦层的下底面的面积大于所述第一隔垫物远离所述平坦层的上底面的面积,所述第二隔垫物靠近所述平坦层的下底面的面积大于所述第二隔垫物远离所述平坦层的上底面的面积。
6.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1至5任意一项权利要求所述的彩膜基板。
7.一种彩膜基板的制造方法,其特征在于,包括:
通过一次构图工艺,在透明基板上形成交叉排列的多个第一黑矩阵图案和多个第二黑矩阵图案;
在形成包括有所述第一黑矩阵图案和所述第二黑矩阵图案的基板上形成彩膜层图案;
其中,所述彩膜层图案至少包括第一彩膜图案、第二彩膜图案、第三彩膜图案,所述第一彩膜图案、第二彩膜图案以及第三彩膜图案被所述第二黑矩阵图案隔开,且所述第一彩膜图案、所述第二彩膜图案、所述第三彩膜图案呈周期性排布每个所述彩膜图案与所述第一黑矩阵图案的重叠区域包括第一缺口和第二缺口,且所述第一缺口的开口方向与所述第二缺口的开口方向相反;所述第一彩膜图案的第二缺口和与所述第一彩膜图案的第二缺口相对的所述第二彩膜图案的第一缺口之间的区域为第一区域,所述第二彩膜图案的第二缺口和与所述第二彩膜图案的第二缺口相对的所述第三彩膜图案的第一缺口之间的区域为第二区域,所述第一区域的面积与所述第二区域的面积不相等;
在形成有黑矩阵图案和所述彩膜层图案的基板上形成平坦层,所述第一区域对应的平坦层的厚度与所述第二区域对应的平坦层的厚度不相等;
通过一次构图工艺,在所述平坦层上形成包括第一隔垫物图案和第二隔垫物图案的隔垫物层图案,所述第一隔垫物图案和所述第二隔垫物图案的形状和尺寸均相同。
8.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于,所述通过一次构图工艺,在透明基板上形成交叉排列的多个第一黑矩阵图案和多个第二黑矩阵图案包括:
通过一次构图工艺,在透明基板上形成纵横排列的多个第一黑矩阵图案和多个第二黑矩阵图案;
其中,所述第一黑矩阵图案对应阵列基板的栅线,所述第二黑矩阵图案对应阵列基板的数据线。
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