[发明专利]聚合物器件及其制造方法、透镜模块以及成像装置有效
申请号: | 201410158464.5 | 申请日: | 2014-04-18 |
公开(公告)号: | CN104122641B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 永井信之;石田武久;加藤祐作;川部英雄;森田真义 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
主分类号: | G02B7/02 | 分类号: | G02B7/02;G02B7/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 胡莉莉;陈岚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚合物 器件 及其 制造 方法 透镜 模块 以及 成像 装置 | ||
1.一种聚合物器件,包括:
一对电极层;
高分子层,插入在所述一对电极层之间;以及
扩张收缩抑制层,布置在所述一对电极层之间,所述扩张收缩抑制层被布置为远离各所述电极层,并且所述扩张收缩抑制层被配置为抑制所述高分子层的扩张和收缩,
其中,所述扩张收缩抑制层由具有由离子传导树脂浸渍的空隙的纤维膜或多孔膜制成,
其中,所述扩张收缩抑制层与所述高分子层相比具有较低的线性扩张系数和较高的杨氏模量。
2.根据权利要求1所述的聚合物器件,其中,所述扩张收缩抑制层被布置在所述高分子层中的厚度方向上的中心附近。
3.根据权利要求2所述的聚合物器件,其中,从所述一对电极层的一个电极层到所述扩张收缩抑制层的间隔距离基本上等于从所述一对电极层的另一电极层到所述扩张收缩抑制层的间隔距离。
4.根据权利要求1所述的聚合物器件,其中,所述扩张收缩抑制层具有离子传导性。
5.根据权利要求4所述的聚合物器件,其中,所述扩张收缩抑制层由离子传导树脂与纤维膜或多孔膜构成。
6.根据权利要求1所述的聚合物器件,其中,所述扩张收缩抑制层被布置在所述高分子层的形成区域的一部分或全部中。
7.根据权利要求6所述的聚合物器件,其中,所述扩张收缩抑制层被布置在所述高分子层的形成区域的一部分中并且基本上各向同性地布置。
8.根据权利要求6所述的聚合物器件,其中,所述扩张收缩抑制层具有在所述高分子层的所述形成区域中沿预定方向延伸的异方性形状。
9.根据权利要求1所述的聚合物器件,其中,
所述扩张收缩抑制层由包括多个层的层压结构构成,以及
多个类型的高扩张收缩抑制方向被设置在作为整体的所述层压结构中,所述多个类型的高扩张收缩抑制方向均具有较大的扩张收缩抑制作用。
10.根据权利要求9所述的聚合物器件,其中,所述多个类型的高扩张收缩抑制方向作为整体基本上是各向同性的。
11.根据权利要求9所述的聚合物器件,其中,
所述层压结构由三个以上的层构成,以及
所述层压结构中的外侧层具有与所述层压结构的中间层的高扩张收缩抑制方向不同的高扩张收缩抑制方向。
12.根据权利要求1所述的聚合物器件,其中,
所述聚合物器件具有沿预定方向延伸的异方性形状,以及
所述扩张收缩抑制层中的具有较大的扩张收缩抑制作用的高扩张收缩抑制方向基本上与所述预定方向相同。
13.根据权利要求1所述的聚合物器件,其中,所述扩张收缩抑制层抑制所述高分子层中的层内方向上的扩张和收缩。
14.根据权利要求1所述的聚合物器件,其中,所述聚合物器件被配置为聚合物致动器器件或聚合物传感器器件。
15.根据权利要求14所述的聚合物器件,其中,所述聚合物致动器器件驱动透镜或成像器件。
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