[发明专利]一种制备电润湿显示支撑板的方法有效

专利信息
申请号: 201410159289.1 申请日: 2014-06-20
公开(公告)号: CN104090360B 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 周国富;吴昊;罗伯特·安德鲁·海耶斯;李发宏 申请(专利权)人: 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 冯剑明
地址: 510631 广东省广州市大学城*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 润湿 显示 支撑 方法
【权利要求书】:

1.一种制备电润湿显示支撑板的方法,其特征在于,由以下步骤组成:

1)在一支撑板上设置像元壁,其中所述像元壁由亲水材料制成并具有一高度;

2)在所述支撑板和像元壁上施加一疏水材料层;

3)在疏水材料层上设置至少一层保护层,其在处于液态时流入像元壁所包围的凹槽中并完全覆盖凹槽中的疏水层部分,其中至少一层保护层包含适用于光刻或蚀刻工艺的可以清洗掉的物质,且凹槽中的保护层高度低于像元壁;

4)去除像元壁上部的疏水材料层;

5)清洗掉保护层;

其中,在步骤3)中,像元壁上部的整个疏水层裸露未被保护层覆盖,或像元壁上部的疏水层至少部分被一较薄保护层覆盖,其中且该较薄保护层的厚度小于所述凹槽中的保护层厚度;

其中,在步骤4)中,所述去除处理包括蚀刻处理,且控制所述蚀刻处理使像元壁上部的较薄保护层和像元壁上部的疏水层被蚀刻掉,或控制所述蚀刻处理使像元壁上部的较薄保护层、像元壁上部的疏水层以及像元壁上部的部分亲水层被蚀刻掉,而所述凹槽中的保护层不被蚀刻至裸露出疏水层;被保护层覆盖的凹槽中的疏水层部分不被蚀刻,且控制蚀刻处理使蚀刻后的像元壁的高度为2-20μm。

2.根据权利要求1所述的制备电润湿显示支撑板的方法,其特征在于,在步骤1)中,所述像元壁的高度为不小于2μm。

3.根据权利要求1所述的制备电润湿显示支撑板的方法,其特征在于,所述疏水层的厚度为100nm-2000nm。

4.根据权利要求1所述的制备电润湿显示支撑板的方法,其特征在于,所述保护层包括适用于光刻或蚀刻工艺的可清洗掉的材料。

5.根据权利要求1所述的制备电润湿显示支撑板的方法,其特征在于,控制蚀刻处理使蚀刻后的像元壁的高度为3-12μm。

6.一种电润湿显示支撑板,其特征在于,利用如权利要求1-5中任一项所述的制备电润湿显示支撑板的方法制造。

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